無掩膜光刻機/激光直寫系統

MLW-100型

市場上使用405納米激光器的最高分辨率600納米的結構

405納米激光源，可用于要求更高的應用

緊湊型光學模塊：使用備用光學模塊減少革命性的機器停機時間

用戶友好操作

獨特的研發機會

405nm光學模塊將允許系統最小線寬達到600納米

能力

-市場上使用壽命長的405納米激光器的最高分辨率。

-最小線寬達到600納米

-高達4095級的直寫灰度

-375納米激光可用于要求更高的應用(選配：375納米激光)。

-光柵模式和矢量模式可用。

-軟件可控制的寫入模式選擇。

-實時自動聚焦成為可能。

-支持從5mm x 5mm到125mm x 125mm的基板

操作

-現代的基于Microsoft Windows的用戶界面允許用戶友好的操作。

-高度自動化的處理，一鍵操作。

-遠程互聯網支持

安裝和維護

- MLW-100是一個緊湊的桌面系統，需要最小的清潔空間。

-緊湊型光學模塊：使用備用光學模塊來減少機器停機時間。

-安裝快速方便：除操作PC和真空泵外，所有主要部件

安裝在外殼內。

-維護成本zuidi，無需定期維護。

緊湊型光學模塊，具有卓越的穩定性和革命性的短停機時間

完整的光學路徑包含在一個小的可更換模塊（光學模塊）中。通過盡可能短的優化路徑，與傳統的優化設置相比，點穩定性大大提高。光學模塊包含壽命長的405 nm激光和**光斑形狀的光束整形光學元件。

特征：

-市場上最小的高品質激光束光斑。

-集成的650納米紅色激光控制自動對焦系統自動糾正高度變化。

-綜合劑量控制。

-選項：對于要求較低的任務，可以使用全自動NA開關選擇較大的光斑尺寸。此開關允許系統使用更大的點以提高速度。

光學特性

激光源405納米，GaN激光器

壽命>10000小時

寫入模式：0.6μm，可選1.2μm和2.0μm FWHM。

工作距離0.9毫米

最大強度為3 mW，軟件可控。

灰度控制4095級

自動對焦800 Hz band寬，650nm 紅光激光控制

-0.3…x…+0.3 mm高度變化，帶自動高度跟蹤。

快速的音圈執行器，精確的實時Z校正。

焦距可通過軟件控制進行調整。

正面對準

光學模塊配備高分辨率攝像機，用于需要多層的應用。相機圖像由高級成像軟件處理。自動標記識別使用戶很容易找到標記。用戶可以設定任何形狀作為標記。當在相機的視場中找不到標記時，軟件支持區域掃描，以便在更大的區域中自動搜索標記。對齊和圖像補償可以基于一個、兩個或三個標記。

正面對準指標：

校準照相機單色520萬像素。

像素分辨率1μm

對準精度 <0.5μm

修正算法通過掃描和步進軸之間的插值運動進行位置、比例（最大5%）、傾斜、旋轉（最大+/-5度）旋轉修正。

MLW-100配備了用于X和Y運動的高精度軸和一個用于Z運動的可選軸。掃描軸（Y）包含一個高精度燕尾形空氣軸承，該軸承由帶納米分辨率編碼器的直線電機驅動。步進軸（X）采用帶直線電機和高分辨率光學編碼器的精密滾子軸承。該系統允許極低的機械誤差和快速掃描運動。可選的電動控制Z軸具有12 mm行程，以支持各種基板厚度。

用真空吸盤夾緊基板。真空吸盤易于更換，以支持不同的基板尺寸。

機械性能

行程和階梯最大115 mm

重復性<50 nm RMS

分辨率10納米

掃描速度最大200 mm/s

直線度軸 <1μm，在100 mm范圍

樣品厚度：0-10 mm手動調整；12 mm，安裝可選電動Z軸。

樣品襯底厚度變化最大值+/-0.2mm

樣品襯底尺寸：5mm x 5mm到125mm x 125mm

曝光區域： 100mm x 100mm