這款無掩模光刻機,無掩膜光刻機是一款高精度的激光直寫光刻機。這套無掩模光刻機，無掩膜光刻機具有無掩模技術的便利，大大提高影印和新產品研發的效率，節省時間，是全球領xian的無掩模光刻系統。

這款無掩模光刻機直接用375nm或405nm紫外激光把圖形寫到光膠襯底上。

無掩模光刻系統，無掩膜光刻機特色

尺寸：925x925x1600mm

內置計算機控制接口

激光光源：375nm或405nm

視頻輔助定位系統

自動聚焦設置

無掩模光刻機，無掩膜光刻機參數

線性寫取速度：>500mm/s

位移臺分辨率：100nm

重復精度： 100nm

晶圓寫取面積：16英寸

襯底厚度：250微米-10毫米

激光點大小：1-100微米

準直精度：500nm