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小型臺式無掩膜光刻系統

銷售范圍售全國

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產品特點

Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

小型臺式無掩膜光刻系統是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

產品特點
Focus Lock自動對焦功能 Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，并通過Z向調整和補償，以保證曝光分辨率。		光學輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

直寫前預檢查軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫準確。		標記物自動識別點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。		Clewin 掩模圖形設計軟件 ? 可以讀取多種圖形設計文件（DXF, CIF, GDSII, 等） ? 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 ? 書寫范圍只由基片尺寸決定

Microwriter ML3	基本型	增強型	旗艦型
大樣品尺寸	155×155×7mm	155×155×7mm	230×230×15mm
大直寫面積	149mm x 149mm	149mm x 149mm	195mm x 195mm
曝光光源	405 nm LED 1.5W	405 nm LED 1.5W	385 nm LED 適用于SU-8 （365+405nm雙光源可選）
直寫分辨率	1μm	1μm and 5 μm	0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直寫速度	20mm2/min @ 1μm	20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm	25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm
對準顯微鏡鏡頭	x10	x3 and x10 自動切換	x3, x5, x10, x20 自動切換
多層套刻精度	±1μm	±1μm	±0.5μm
小柵格精度	200nm	200nm	100nm
樣品臺小步長	100nm	100nm	50nm
光學輪廓Z分辨率	無(可升級)	300nm	100nm
樣品表面自動對焦	是	是	是
灰度直寫(255級)	是	是	是
自動晶片檢查工具	無(可升級)	有	有
溫控樣品腔室	無 (可升級)	無 (可升級)	有
虛擬模板校準工具	無(可升級)	無(可升級)	有
氣動減震光學平臺	無(可升級)	無(可升級)	有