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三維激光直寫的優勢

來源:魔技納米科技有限公司      分類:工作原理 2022-04-28 19:24:30 446閱讀次數
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       三維激光直光刻機是一種用于物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器,于2012年12月24日啟用。

       三維激光直寫采用高功率LED(λ:405nm)光源和全自動對焦、對準技術,長壽命、低功耗。采用專  利技術的LED固體光源和高精密光柵尺定位工作平臺,可實現0.65um的亞微米分辨率光刻及0.6um的套刻精度。

       三維激光直寫主要功能:該設備是基于空間光調制器的直寫光刻設備,用于制作光刻掩膜。

直寫前預檢查:軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過調整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確。

        三維激光直寫的優勢:

  1. 無需掩模,可實現納米級精度的三維加工

  2. 自主研發的超高速加工方式,便于工業應用

  3. 擁有極小的拼接誤差

  4. 適用高達12英寸的基材

  5. 全自動控制系統


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最近更新:2025-03-14 14:02:16
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