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光纖光譜儀在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用

來(lái)源:北京愛(ài)蛙科技有限公司      分類:應(yīng)用方案 2024-11-05 08:00:11 68閱讀次數(shù)
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隨著現(xiàn)代電子技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體材料在各種應(yīng)用領(lǐng)域中發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。為了確保半導(dǎo)體材料的質(zhì)量和性能,需要對(duì)其進(jìn)行精密的檢測(cè)和測(cè)試。其中一種常用的方法是使用光譜技術(shù),而光纖光譜儀則是一種常用的光譜測(cè)試設(shè)備之一。

光纖光譜儀基本配置包括包括一個(gè)光柵,一個(gè)狹縫,和一個(gè)探測(cè)器,通常采用光纖作為信號(hào)耦合器件,將被測(cè)光耦合到光譜儀中進(jìn)行光譜分析。由于光纖的方便性,用戶可以非常靈活的搭建光譜采集系統(tǒng),優(yōu)勢(shì)在于測(cè)量系統(tǒng)的模塊化和靈活性。

一、膜厚測(cè)量
半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)以數(shù)十次至數(shù)百次的鍍膜、光刻、蝕刻、去膜、平坦等為主要工序,膜層的厚度、均勻性等直接影響芯片的質(zhì)量和產(chǎn)量,在加工中必須不斷地檢測(cè)及控制膜層的厚度。光學(xué)薄膜測(cè)厚儀是半導(dǎo)體生產(chǎn)流程中必不可少的設(shè)備之一,用于對(duì)芯片晶圓及相關(guān)半導(dǎo)體材料的鍍膜厚度等進(jìn)行檢測(cè)。
半導(dǎo)體光學(xué)薄膜測(cè)厚儀技術(shù)主要有光譜反射儀和橢偏儀兩種。橢偏儀考慮了光的極化,采用P波和S偏振反射光之間的相位差異,適用于非常薄的薄膜,并可直接測(cè)試N,K值。光譜反射儀雖然沒(méi)有橢偏儀的這些性能,但也能測(cè)量數(shù)納米以下的薄膜厚度,測(cè)量精度高,而且測(cè)量速度較快。
基于光波的干涉現(xiàn)象,光束照射在薄膜表面,由于入射介質(zhì)、薄膜材料和基底材料具有不同的折射率值和消光系數(shù)值,使得光束在透明/半透明薄膜的上下表面發(fā)生反射,反射光波相互干涉,從而形成干涉光,這些干涉光在不同相位處的強(qiáng)度將隨著薄膜的厚度發(fā)生變化。通過(guò)對(duì)干涉光的檢測(cè),結(jié)合適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)模型即可計(jì)算得到薄膜的厚度。
海洋光學(xué)膜厚儀檢測(cè)系統(tǒng),配置有采樣平臺(tái)、UV-VIS反射探頭,配置如下。

二、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)的過(guò)程監(jiān)控

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)是通過(guò)輝光放電等離子體手段,使含有組成薄膜的氣態(tài)物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),獲得沉積薄膜的一種新的制備技術(shù)。由于制備薄膜是通過(guò)反應(yīng)氣體放電來(lái)實(shí)現(xiàn)的,所以非平衡等離子體的反應(yīng)特征在PECVD技術(shù)有效地得到了利用,反應(yīng)體系的能量供給方式從根本上發(fā)生了改變。

反饋腔室電場(chǎng)功率的調(diào)整和變化

等離子體強(qiáng)度可以校準(zhǔn),使腔室功率與發(fā)射線峰值強(qiáng)度相關(guān)聯(lián)

反饋電子離子反應(yīng)平衡狀態(tài)

使用斯特凡-玻爾茲曼輻照方程把數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成等離子體溫度

why:
  • 研究等離子體半反應(yīng)過(guò)程中傳遞到表面的電子激發(fā)物質(zhì),

  • 提供前驅(qū)體半反應(yīng)和整個(gè)過(guò)程性能的信息。

How:

  • 從等離子體組成和相對(duì)含量分布的視角監(jiān)控表面反應(yīng)產(chǎn)物,了解沉積過(guò)程的反應(yīng)機(jī)制。

  • 時(shí)間分辨等離子體光譜組成和分布可以揭示兩個(gè)半反應(yīng)飽和度的信息,因此也可以通過(guò)等離子體光譜組成和分布優(yōu)化半反應(yīng)時(shí)間。

  • 監(jiān)控等離子體光譜組成和分布是一種易于實(shí)現(xiàn)的技術(shù),用于PECVD等設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程監(jiān)控和過(guò)程控制這有助于減少前驅(qū)體消耗和提高晶圓產(chǎn)量。

Where:

  • 實(shí)時(shí)反饋前體物流量比和總流量的調(diào)整;

  • 沉積速率的控制;

  • 監(jiān)控清潔凈化的充分性;

  • 反應(yīng)器壁的調(diào)節(jié);

  • 工藝故障顯示(進(jìn)氣閥故障、等離子激發(fā)源故障等)

反饋控制反應(yīng)氣體流量比

三、等離子體刻蝕-EPD監(jiān)控

等離子體刻蝕:將硅片表面曝露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體,等離子體通過(guò)光刻膠中開(kāi)出的窗口,與硅片發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng)(或這兩種反應(yīng)),從而去掉曝露的表面材料。

在基于等離子體的蝕刻工藝中,等離子體監(jiān)測(cè)對(duì)工藝控制很重要。晶圓是用光刻技術(shù)制造和操作的,蝕刻是這一過(guò)程的主要部分,在這一過(guò)程中,材料可以被分層到一個(gè)非常具體的厚度。當(dāng)這些層在晶圓表面被蝕刻時(shí),等離子體監(jiān)測(cè)被用來(lái)跟蹤晶圓層的蝕刻,并確定等離子體何時(shí)完全蝕刻了一個(gè)特定的層并到達(dá)下一個(gè)層。通過(guò)監(jiān)測(cè)等離子體在蝕刻過(guò)程中產(chǎn)生的發(fā)射線,可以精確跟蹤蝕刻過(guò)程。這種終點(diǎn)檢測(cè)對(duì)于使用基于等離子體的蝕刻工藝的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)至關(guān)重要。

等離子體監(jiān)測(cè)可以通過(guò)靈活的模塊化設(shè)置完成,使用高分辨率光譜儀,如海洋光學(xué)的HR或Maya2000 Pro系列(后者是檢測(cè)UV氣體的一個(gè)很好的選擇)。對(duì)于模塊化設(shè)置,HR光譜儀可以與抗曝光纖相結(jié)合,以獲得在等離子體中形成的定性發(fā)射數(shù)據(jù)。從等離子體室中形成的等離子體中獲取定性發(fā)射數(shù)據(jù)。如果需要定量測(cè)量,用戶可以增加一個(gè)光譜庫(kù)來(lái)比較數(shù)據(jù),并快速識(shí)別未知的發(fā)射線、峰和波段。

Etching監(jiān)控

監(jiān)控O:F 反饋腔室清潔程度

在蝕刻和沉積過(guò)程中,等離子室的內(nèi)部可能會(huì)涂有殘留材料。通過(guò)監(jiān)測(cè)O與F譜線強(qiáng)度的比率來(lái)檢測(cè)清潔度水平。較高的氧氟比表明腔室相對(duì)清潔這可能表明該腔室正在有效地去除氟殘留物。

濕法刻蝕溶液濃度的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)

實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的優(yōu)點(diǎn)

  • 通過(guò)化學(xué)品再利用和減少有毒廢物節(jié)省成本實(shí)時(shí)監(jiān)控和集中調(diào)整確定所需的最低濃度

  • 實(shí)紲馀輕如螓幸崴汞嶅個(gè)監(jiān)控和集中調(diào)整

  • 確定所需的最低濃度

四、光譜儀監(jiān)測(cè)固化過(guò)程中的紫外光輸出

固化是指通過(guò)特定的方式使物質(zhì)從液態(tài)或可塑狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楣虘B(tài)的過(guò)程。在許多工業(yè)領(lǐng)域,如涂料、油墨、膠粘劑等行業(yè),紫外光固化技術(shù)被廣泛應(yīng)用。紫外光固化利用紫外光的能量引發(fā)化學(xué)反應(yīng),使液態(tài)的樹(shù)脂快速固化成固態(tài)的聚合物。這個(gè)過(guò)程具有高效、節(jié)能、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn),但同時(shí)也需要精確控制紫外光的輸出,以確保固化效果和產(chǎn)品質(zhì)量。

光譜儀可以實(shí)時(shí)測(cè)量固化過(guò)程中紫外光的強(qiáng)度。通過(guò)對(duì)不同波長(zhǎng)的紫外光進(jìn)行檢測(cè),可以獲得紫外光在整個(gè)光譜范圍內(nèi)的強(qiáng)度分布。這對(duì)于確保紫外光源的穩(wěn)定性和一致性至關(guān)重要。例如,在涂料固化過(guò)程中,如果紫外光強(qiáng)度不足,可能導(dǎo)致涂料固化不完全,影響涂層的性能;而如果紫外光強(qiáng)度過(guò)高,可能會(huì)引起涂層老化、變色等問(wèn)題。

實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)還可以幫助及時(shí)發(fā)現(xiàn)紫外光源的故障或衰減。例如,如果紫外燈的壽命即將到期,其輸出的紫外光強(qiáng)度會(huì)逐漸降低,光譜儀可以及時(shí)檢測(cè)到這種變化,提醒操作人員更換紫外燈,以保證固化過(guò)程的正常進(jìn)行。

光譜儀還可以評(píng)估固化后的產(chǎn)品質(zhì)量。例如,通過(guò)測(cè)量固化后產(chǎn)品的光學(xué)性能,如透過(guò)率、反射率等,可以判斷產(chǎn)品的固化程度和均勻性。如果產(chǎn)品的光學(xué)性能不符合要求,可能表明固化過(guò)程存在問(wèn)題,需要進(jìn)一步優(yōu)化固化工藝。

紫外線固化實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)-Raman

  • 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膠粘劑固化情況

  • 確認(rèn)固化過(guò)程完成

  • 機(jī)確定工藝改進(jìn)的速率常數(shù)

內(nèi)容來(lái)源:海洋光學(xué),編輯整理


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