用 Sievers*TOC 分析儀分析過氧化氫中的 TOC
挑戰(zhàn)
過氧化氫(H2O2)是許多行業(yè)在生產(chǎn)工藝中廣泛使用的 重要化學(xué)品。許多應(yīng)用(例如半導(dǎo)體制造)都需要使用高純度、低污染的 H2O2溶液。有效地測量 H2O2溶液中的 雜質(zhì)濃度(特別是有機(jī)碳濃度),是確定過 H2O2溶液在工藝中的適用性以及 H2O2溶液對工藝和產(chǎn)品的影響的關(guān)鍵。
H2O2 溶液中的可溶性有機(jī)雜質(zhì)會對半導(dǎo)體工藝和半導(dǎo)體產(chǎn)品造成影響。由于基體產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),因此分析 H2O2 溶液中的有機(jī)物含量極為困難。此外,H2O2 溶液中的有 機(jī)化合物很穩(wěn)定,即使在高反應(yīng)條件下也難以被完全氧 化。要想對 H2O2溶液進(jìn)行準(zhǔn)確而穩(wěn)健的總有機(jī)碳分析, 就需要一種能夠有效氧化穩(wěn)定的有機(jī)化合物的儀器和方法。
解決方案
TOC 分析被廣泛用來評估在半導(dǎo)體工藝中使用的高純度化學(xué)品的質(zhì)量。但分析儀器必須對易反應(yīng)的基體具有化學(xué)耐受性,并在低 pH 值下能夠有效氧化有機(jī)碳,以獲得有效結(jié)果。
Sievers InnovOx ES 實(shí)驗(yàn)室型 TOC 分析儀采用超臨界水氧化(SCWO,Supercritical Water Oxidation)技術(shù), 能夠有效氧化基體中的難以分析的不穩(wěn)定有機(jī)化合物, 從而測量出 TOC 的 ppm 和 ppb 濃度。我們已經(jīng)用磷酸、鹽酸、硝酸、硫酸等酸劑成功完成了 TOC 定量測量。
技術(shù)
Sievers InnovOx TOC 分析儀采用超臨界水氧化技術(shù), 將有機(jī)碳分子氧化為 CO2,然后用非色散紅外(NDIR, Non-Dispersive Infrared)檢測技術(shù)進(jìn)行極ng確定量。 在 超臨界水氧化過程中,樣品被加熱、加壓,直到水的臨 界點(diǎn)以上。在此條件下(375?C 和 220 巴),水成為超臨界流體,水中的有機(jī)物高度可溶,而無機(jī)鹽不可溶。 此條件提高了氧化效率,從而能夠測量出反應(yīng)性基體或 復(fù)雜基體中的 TOC。
過氧化氫 (H2O2)
我們用 30%H2O2 溶液中的加標(biāo)咖啡 因的濃度來評估 Sievers InnovOx ES 實(shí)驗(yàn)室型分析儀分析 H2O2溶液中 TOC 的能力。我們分析了加標(biāo)樣品,并將實(shí)際 TOC 結(jié)果與預(yù)期值進(jìn)行比較,從而證明了此評估方法的可行性。
我們在兩個范圍(0 - 5000 ppm 和 0 - 20000 ppm) 內(nèi)進(jìn)行分析,證明了分析儀在寬廣的 TOC 范圍內(nèi)具有適用性 。我們還確定了酸劑 ( HCl ) 和氧化劑 ((NH4)2S2O8)的**設(shè)置,以得到Z準(zhǔn)確和Z極ng確的測量結(jié)果。
表 1 中的分析數(shù)據(jù)包括加標(biāo)濃度、從加標(biāo)的 30%H2O2 樣品中測得的 TOC、TOC 百分比回收率。用實(shí)測 TOC 值除以加標(biāo)值來計(jì)算回收的 TOC 值。 分析數(shù)據(jù)顯示,分析儀能夠?qū)Σ煌瑵舛鹊?H2O2 溶液進(jìn) 行 TOC 定量測量。為了減少在氧化環(huán)境中損失咖啡 因,我們在加標(biāo)后 3 小時內(nèi)完成分析。
表 1:對 30% H2O2(0 - 5000 ppm 范圍)進(jìn)行 TOC 分析
咖啡 因加標(biāo)值 (ppm) | 實(shí)測 TOC(ppm) | TOC 百分比回收率(ppm) |
50 | 50 | 1**% |
100 | 93 | 93% |
250 | 213 | 85% |
500 | 426 | 85% |
第二項(xiàng)測試評估了在一系列氧化劑設(shè)置下的 TOC 回收率的優(yōu)化情況。向 30%H2O2溶液中加入 500 ppm 咖啡 因, 然后在 0 - 20000 ppm 范圍內(nèi)進(jìn)行分析。測量數(shù)據(jù)如表 2 所示。用實(shí)測 TOC 值除以加標(biāo)值來計(jì)算回收的 TOC 值。
表 2:對 30% H2O2(0 - 20000 ppm 范圍)進(jìn)行 TOC 分析
咖啡 因加標(biāo)值(ppm) | 實(shí)測 TOC (ppm) | % RSD | %回收率 | %氧化劑 |
500 | 510 | 7% | 102% | 5 |
500 | 506 | 3% | 101% | 10 |
500 | 482 | 8% | 96% | 15 |
在各種氧化劑設(shè)置下,500 ppm TOC 的回收率都非常 好。 相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)表明,分析范圍的測量極ng確 度符合標(biāo)準(zhǔn)。用 5%到 10%范圍的氧化劑設(shè)置,得出了 **結(jié)果。
結(jié)論
Sievers InnovOx ES 實(shí)驗(yàn)室型分析儀能夠準(zhǔn)確地、極ng確 地測量 30%的濃縮 H2O2溶液中的各種 TOC 濃度。測量 的極ng確度和準(zhǔn)確度很高,咖啡 因回收率可達(dá) 500 ppm。 在整個測量過程中,分析儀器表現(xiàn)出極 佳的穩(wěn)定性,并 且耐受 H2O2基體,在規(guī)定的維護(hù)周期內(nèi)沒有發(fā)生降解。
建議
表 3 是建議的 H2O2分析參數(shù)。使用對各個 TOC 濃度范圍建議的參數(shù)組,就能得到Z準(zhǔn)確和Z極ng確的測量數(shù)據(jù)。
表 3:對 30% H2O2的建議的 TOC 分析參數(shù)
TOC | <100 ppm |
范圍 | 0-5k |
酸劑 | 2-5% 3M HCl |
氧化劑 | 0-1% |
吹除 | 0.8 分鐘 |
校準(zhǔn)點(diǎn) | 線性、0、10、50、100 ppm |
TOC | 100<TOC<5,000 |
范圍 | 0-5k |
酸劑 | 2-5 % 3M HCl |
氧化劑 | 5% |
吹除 | 0.8 分鐘 |
校準(zhǔn)點(diǎn) | 線性、0、100、1000、5000 |
TOC | 100<TOC<20,000 |
范圍 | 0-20k |
酸劑 | 2-5 % 3M HC |
氧化劑 | 10% |
吹除 | 0.8 分鐘 |
校準(zhǔn)點(diǎn) | 線性、0、100、1000、5000、20000 |
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- 最近更新:2025-04-25 12:40:10
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