荷蘭SCIL公司簡介

  荷蘭SCIL公司是知名的納米壓印設備供應商，是荷蘭飛利浦公司投資的高科技公司之一，“SCIL基底保形壓印光刻”技術，結合了小面積硬壓與大面積軟壓的優(yōu)勢，真正意義上實現了12寸晶圓高質量無基底損傷保形的納米壓印，已成功用于12寸量產線，已經被國際上很多知名fab廠采用。

       “SCIL基底保形壓印光刻”是一種經濟高效、穩(wěn)健、高產量的工藝，可在多種材料上實現納米分辨率圖案。SCIL可實現在達 300 毫米的晶圓區(qū)域上提供經過驗證的高質量壓印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻對齊精度小于 1 μm 的圖案。

  荷蘭SCIL公司同時開發(fā)了的無機玻璃納米壓印光刻膠，可直接作為功能層使用，可直接省去2個工藝步驟，大大降低了生產成本。

       SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圓手動研發(fā)工具到全自動系統(tǒng)的全方位解決方案，并可以幫助客戶優(yōu)化設備、耗材和流程，以實現大批量生產。

SCIL 技術特色

  - 即使在非平坦和彎曲的表面上也可以保證保形接觸印刷（模板復制技術）。

  - 獨特的 SCIL 壓印工藝可確保＜10 nm 分辨率、低圖案變形和無顆粒損壞印模。

  - 套刻對齊精度：< 1 μm

  - Sol-gel的優(yōu)異蝕刻特性可得到極高的蝕刻率。

  - Sol-gel的的熱穩(wěn)定性、光學透明度和（UV）穩(wěn)定性使其適合作為功能層。

  - 使用熱Sol-gel大大增加了母版壽命。

  - 總體而言，SCIL可將超高的壓印質量和產量與高吞吐量和低總體擁有成本相結合。

  LabSCIL型科研級納米壓印系統(tǒng)簡介

        LabSCIL專為有興趣開發(fā) SCIL 流程和應用程序的大學、研究所和公司的研發(fā)實驗室開發(fā)，對于對可用于小批量試生產的工具感興趣的公司，LabSCIL將是理想的選擇。

技術參數

應用

  納米圖案化是眾多納米光子應用的關鍵工藝步驟。下面提到的應用程序只是一個選擇。其他應用包括：

  - 增強現實和虛擬現實 (AR/VR) 光學

      - MicroLED

  - MEMS和3D傳感