電子束曝光系統(tǒng)概述

電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺(tái)，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。

公司完成了電子束曝光工藝和設(shè)備核心部件的技術(shù)突破，率先在中國(guó)推出自主創(chuàng)新、品質(zhì)可控、性能優(yōu)異的電子束曝光系統(tǒng)整機(jī)設(shè)備 ：Pharos 310。電子束曝光系統(tǒng)中多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際一流水平 ， 實(shí)現(xiàn)了電子曝光設(shè)備系統(tǒng)國(guó)產(chǎn)替代、自主可控的發(fā)展目標(biāo)，產(chǎn)品成為實(shí)驗(yàn)室條件下進(jìn)行亞微米至納米級(jí)別光刻技術(shù)研發(fā)的利器。

電子束曝光系統(tǒng)的構(gòu)成

應(yīng)用案例

主要技術(shù)規(guī)格

*工藝：加速電壓30keV; 光刻膠PMMA  950K  A2; 光刻膠厚度60 nm