XUV（EUV）   反射鏡

EUV光刻

高階諧波應用

阿秒科學

X射線激光器

多層反射鏡

Mp/Si

Ru/Si

Zr/Al

SiC/Mg  

Cr/C

50電子伏至100電子伏

50電子伏至100電子伏

 50電子伏至70電子伏

 25電子伏至50電子伏

 至300電子伏

單層反射鏡

SiC  

Pt  

Ru

10電子伏至100電子伏

X射線反射鏡

同步加速器應用  

XFEL應用

內置X射線無損   檢查設備

多層反射鏡

W/C  

W/B4C  

Ru/C  

Pt/C

1k電子伏至30k電子伏

單層反射鏡

C  

B4C  

SiC  

Cr  

Ni

1k電子伏至30k電子伏

XUV多層反光鏡

描述

基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環面、橢圓面  

基板材料：石英、硅、zero dewer等  

多層膜材料：Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C等  

基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米  Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT的Mo/Si多層反射鏡具有達70％的正入射反射率。     NTT-AT的XUV反射鏡的材料、膜結構和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。

基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環面     

基板：石英、硅、zero dewer等     

基板材料：W/B4C、W/C、Pt/C等     基板尺寸：大500毫米     NTT-AT提供K-B反射鏡系統、沃爾特反射鏡等

X射線多層反射鏡

描述

反射率，粉紅色；計算的反射率，周期長度： 2.95納米）W/B4C多層和W/C多層膜反射鏡對硬X射線應用具有高反射率。為了有效反射和聚集硬X射線，必須大限度地縮小入射角的斜角。這需要較長的反射鏡長度和較小的多層膜周長。

單層反射鏡

描述

基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環面     

基板材料：石英、硅、zero dewer等     

多層材料：C、B4C、SiC、Ru、NbN、Pt等    

基板尺寸：大500毫米    

利用全反射的單層反射鏡用于波束控制、光聚合和去除XUV至X射線范圍內的無需波長。     NTT-AT的單層反射鏡的材料和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。  帶釕層的橢圓面反射鏡