上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 離子源, 100%原廠原裝進口.

KRI 射頻離子源 RFICP 380 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >1500 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.

離子束可聚焦, 平行, 散射.

采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.

離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝.

通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配

8. RF Generator 可根據工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術參數：

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 組成構件：

1. 底座風冷風扇

2. Grid ((柵級)) 模組

3. RF Coil (射頻銅管)

4.  石英杯

5. LFN 2000 (燈絲) 中和器

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 應用案例：

1. 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 應用于離子刻蝕 IBE

2. 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 325 輔助 LED-DBR 鍍膜

3. 伯東 KRI 離子源成功應用于離子濺射鍍膜 (IBSD)

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