KRI 離子源應(yīng)用于超高真空電子束蒸鍍設(shè)備 UHV E-beam System
超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12 torr, 超高真空環(huán)境對于科學(xué)研究非常重要, 因為實驗通常要求在整個實驗過程中, 表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)和使用低能電子和離子的實驗技術(shù)的使用, 而不會受到氣相散射的過度干擾, 在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍可以提供高質(zhì)量的薄膜. 上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源可以在蒸鍍過程中實現(xiàn)預(yù)清潔和輔助鍍膜的作用.


如上圖是超高真空電子束蒸鍍設(shè)備, 針對超高真空和高溫加熱設(shè)計基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷循環(huán)來保護(hù)機構(gòu)以確保長時間運轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性.

上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                    F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                  M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!