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顯微分光膜厚測量儀
- 品牌：日本HalfMoon
- 產(chǎn)地：
- 供應商報價：面議
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上海瞬渺光電技術有限公司
更新時間：2022-01-12 15:50:35 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照
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詳細介紹
產(chǎn)品特點：
?優(yōu)異的性價比，低價格卻可達到相近于高端膜厚計的測量再現(xiàn)性。
?中文化操作介面，入門簡易、溝通無障礙。
?提供完整測量教學、技術支援、點檢校正等售后服務。
?采用標準樣品驗證膜厚精度與再現(xiàn)性，確保追溯體制的完整。
?顯微鏡聚焦下的微距口徑測量。
產(chǎn)品規(guī)格：
測量規(guī)格 膜厚范圍 200nm~20μm 波長范圍 400nm~780nm 膜厚精度 ±1nm以內(nèi) 重復更現(xiàn)性(2σ) 0.5nm以內(nèi) 選配品 樣品臺尺寸 200mm×200mm以內(nèi)可容制化 測量口徑（10倍物鏡時） Φ20μm、Φ40μm、Φ60μm 電腦設備 需支援至少三個USB以上之筆記型或桌上型電腦 作業(yè)系統(tǒng) WindowsXP/7（32bit） 測量物鏡 5倍、10倍、20倍 軟件功能 膜質(zhì)解析 N：折射率、k：吸光系數(shù) 膜厚測量法 FFT法、波峰-波谷法、曲線近似法（Fitting） 應用范圍：
半導體晶圓膜、FPD薄膜材料、樹脂膜、光阻膜、氧化膜、包裝膜、光學鍍膜、抗反射膜、透明或半透明膜層
應用范例：
Si基板上99.4nm的SiO2膜
Si基板上1018.2nm的SiO2膜
滬公網(wǎng)安備 31011502008050號