CMP Tribo 臺式化學機械研磨拋光設備簡介：
Logitech的Tribo CMP是一個高質量臺式CMP設備，能理想的用于主要目的是進行中試生產測試的R&D環境（這種中試測試過去常常需要用到昂貴的生產型設備）。Tribo屬于小型設備,占地面積小但功能強大,可用性強,并提供更大的生產量。這使得Tribo CMP系統能wan美的用于制造和開發生產環境下的CMP工藝。

典型應用

CMP被廣泛應用于后端IC制造，它做為一種可實現的技術也容易適用于試生產測試、MEMS制造，特別是多晶硅表面顯微機械加工、Opto-MEMS 和 Bio-MEMS 封裝、裝配甚至制造。

Logitech的Tribo CMP是一個高質量立式CMP設備，應用在進行中試生產測試的R&D環境最為理想，過去這種中試測試通常非常耗時而且昂貴。Tribo新的特性及功能，包括先進的傳感器陣列、更高的使用性和容量，可以對更現實的生產環境進行復制，使得Tribo CMP系統能wan美的適用于晶圓制造廠和其它大規模生產的公司。

CMP Tribo 臺式化學機械研磨拋光設備特點：

• 超輕組件像化學防腐拋光盤和拋光頭可以確保系統完全由一人來操作。另外，它所占空間較小可方便安裝在任何標準實驗室內。Tribo的設計使得操作系統更靈活，具備以下特點:

• 雙容量/生產能力（2 x 4"晶圓）

• 完全由操作者控制修整器擺動速度和幅度

• 多種傳感器備選，可在購買時選擇或做為日后升級用

• 一起使用修整器和拋光頭來增加工藝性能