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AMP - 無掩模曝光機

香港電子器材有限公司更新時間：2025-04-24 09:14:23

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

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詳細介紹

產品優點

微米和亞微米光刻 (zui小可達到0.6um線寬)

紫外光直寫曝光,無需掩模，大幅節約了掩模加工費用

靈活性高，可直接通過電腦設計光刻圖形，并可根據設計要求隨意調整。

可升級開放性系統設計。

按照客戶要求可從低端到高端自由配置

使用維護簡單, 設備耗材價格低。

應用范圍廣，目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。


型號	SF-100 XCEL					SF-100 XPRESS			SF-100 XTREME
光學系統	標準光學系統		高分辨率光學系統			高分辨率光學系統			高分辨率光學系統
縮小透鏡	None	3X	任選一個			任選一個			標配以下3種縮小透鏡
縮小透鏡	None	3X	4X	10X	20X	4X	10X	20X	4X	10X	20X
像素尺寸 (標準配置)	15um	5um	1.25um	0.5um	0.25um	1.25um	0.5um	0.25um	1.25um	0.5um	0.25um
特征尺寸 (標準配置)	45um	15um	5um	2um	1um	5um	2um	1um	5um	2um	1um
像素尺寸 (配置Sub-micron)	-	-	0.936um	0.390um	0.188um	0.936um	0.390um	0.188um	0.936um	0.390um	0.188um
特征尺寸 ((配置Sub-micron)	-	-	0.8um	1.17um	0.60um	2.8um	1.17um	0.60um	2.8um	1.17um	0.60um
套刻精度Overlay accuracy (樣品臺配置 theta 方向運動)	-	-	+/-2.5um	+/-1.0um	+/-0.5um	+/-2.5um	+/-1.0um	+/-0.5um	+/-2.5um	+/-1.0um	+/-0.5um
樣品臺	無					自動 XYZ 線性驅動樣品臺。 XY 行程: 60, 100, 150, 200, 300mm可選, Z 行程5mm 或 25mm可選
	或選配手動螺桿驅動樣品臺 XY 行程100mm, Z 行程 25mm					可選配 theta 方向運動			theta 方向運動為標準配置
	或選配自動線性驅動樣品臺 XY 行程100mm, Z 行程 25mm					-			-
設備尺寸	44" W x 26"D x 30"H					60"W x 26"D x 36"H 或, 44"W x 26"D x 30"H			60"W x 26"D x 36"H