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SMEE 500系列光刻機 —— IC后道先進封裝

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產品特點

SSB500系列步進投影光刻機主要應用于200mm/300mm集成電路封裝領域,包括Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等封裝形式,可滿足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圓級光刻工藝需求。

詳細介紹

產品介紹:

SMEE 500系列光刻機 —— IC后道先進封裝

SSB500系列步進投影光刻機主要應用于200mm/300mm集成電路封裝領域,包括Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等封裝形式,可滿足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圓級光刻工藝需求。


產品特征

● 出色的污染防護

● 工藝適應性強


主要技術參數

型號

SSB500/40

SSB500/50

分辨率

2微米

1微米

曝光光源

ghi-line/gh 

line/i-line mercury lamp

ghi-line/gh 

line/i-line mercury lamp

背面對準 

 

IR or visible light backside alignment Wafer edge exposure

IR or visible light backside alignment Wafer edge exposure

硅片尺寸

 200mm或300mm

200mm或300mm


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