Hiden TOF-qSIMS 飛行時間二次離子質譜工作站設計用于多種材料的表面分析和深度剖析應用，包括聚合物，藥物，超導體，半導體，合金，光學和功能涂層以及電介質，檢測限低于1ppm。

與傳統GC相比，其光譜在不到一分鐘就能提供接近實時的數據； FastGC模式可以在需要時被激活,同時不影響常規PTR-TOF操作； 它也可以用來消除高濃度的影響。

- 超高分辨率 - 超低檢出限 - 多離子源， 快速切換

無需樣品預處理過程； 簡單、快捷、獨特的軟離子化技術，極少的碎片產生率； 在氣相離子化學系統的超低檢測限； 快速響應時間、VOCs實時監測、在線檢測。

微量氣體校準使用液體標準； 濃度范圍從ppt 到%通都可行； 適用各種揮發性液體混合物； 高通用性，兼容廣泛的化合物。