
- 2025-03-28 15:21:10保護(hù)柱芯
- 保護(hù)柱芯是一種色譜分析中的耗材,通常安裝在色譜柱的進(jìn)口端,主要作用是捕獲樣品中的不溶性顆粒和雜質(zhì),防止它們進(jìn)入色譜柱內(nèi)部,從而保護(hù)色譜柱不受損害,延長其使用壽命。保護(hù)柱芯通常由柱管和填充在其中的過濾介質(zhì)組成,可以根據(jù)不同的分析需求選擇合適的過濾介質(zhì)。使用保護(hù)柱芯可以有效提高色譜分析的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性,是色譜分析中不可或缺的重要配件。
資源:5097個(gè) 瀏覽:6次展開
保護(hù)柱芯相關(guān)內(nèi)容
保護(hù)柱芯資訊
-
- 琛航科技:寒盡春來萬物生,吹盡狂沙始到金
- 天津琛航專注從事精密流體傳輸設(shè)備及分析儀器的營銷及服務(wù),深耕實(shí)驗(yàn)室化工流體輸送領(lǐng)域以及分析儀器行業(yè),為客戶量身定制實(shí)驗(yàn)室整體解決方案,提供技術(shù)咨詢、儀器供應(yīng)、技術(shù)培訓(xùn)、維修保養(yǎng)等一體化服務(wù)。
保護(hù)柱芯產(chǎn)品
產(chǎn)品名稱
所在地
價(jià)格
供應(yīng)商
咨詢
- 保護(hù)柱套/保護(hù)柱芯
- 國內(nèi) 北京
- ¥550
-
北京華瑞博遠(yuǎn)科技發(fā)展有限公司
售全國
- 我要詢價(jià) 聯(lián)系方式
- Athena C18 保護(hù)柱芯
- 國外 歐洲
- 面議
-
安譜實(shí)驗(yàn)科技
售全國
- 我要詢價(jià) 聯(lián)系方式
- Athena CN 保護(hù)柱芯
- 國外 歐洲
- 面議
-
上海安譜實(shí)驗(yàn)科技股份有限公司
售全國
- 我要詢價(jià) 聯(lián)系方式
- Athena C30 保護(hù)柱芯
- 國外 歐洲
- 面議
-
上海安譜實(shí)驗(yàn)科技股份有限公司
售全國
- 我要詢價(jià) 聯(lián)系方式
- Athena SAX 保護(hù)柱芯
- 國外 歐洲
- 面議
-
上海安譜實(shí)驗(yàn)科技股份有限公司
售全國
- 我要詢價(jià) 聯(lián)系方式
保護(hù)柱芯問答
- 2023-01-06 10:20:02賽默飛42I型儀器配件鉬芯9269
- 產(chǎn)品特性:42I是否進(jìn)口:否產(chǎn)地:美國加工定制:是品牌:賽默飛型號(hào):9269賽默飛42I型儀器配件鉬芯9269詳細(xì)介紹100480-00 面板按鈕板101491-00 處理器板100533-00 母板100539-00 數(shù)字輸出板100542-00 I/O 擴(kuò)充板(備選)102340-00 面板連接器板102496-00 面板顯示器101399-00 220 – 240VAC 變壓器(備選)101863-00 100VAC 變壓器(備選)100536-00 測量接口板100856-00 溫度控制板101167-00 輸入板組件101023-00 壓力傳感器101021-00 流量傳感器(樣品)101620-00 流量開關(guān)(臭氧)9367 光電倍增管(PMT)101024-00 PMT 高壓電源9981 PMT 基本插座組件101390-00 電磁閥101020-00 冷卻器組件102648-01 反應(yīng)室組件9995/101020-00 42i冷堆
126人看過
- 2021-07-26 08:50:46什么是保護(hù)柱,它們在hplc分析中有什么作用?
- HPLC系統(tǒng)能否有效運(yùn)行取決于流動(dòng)相和樣品不受化學(xué)雜質(zhì)或固體懸浮液的影響。對(duì)于HPLC流動(dòng)相的處理和使用注意事項(xiàng)討論主要圍繞在流動(dòng)相的制備和使用中應(yīng)采取的措施。對(duì)于樣品過濾的重要性討論主要圍繞在進(jìn)樣時(shí)清潔樣品的好處。 HPLC色譜柱是HPLC系統(tǒng)中的重要組成部分,使用時(shí)需要細(xì)心使用,用完后要維護(hù)避免下次使用發(fā)生問題。經(jīng)常更換色譜柱是很昂貴的,因此為了節(jié)約成本,需要zui大程度地延長色譜柱的使用壽命。同時(shí)也要細(xì)心維護(hù)色譜柱,以便每次獲得結(jié)果保持準(zhǔn)確性和一致性。 由于經(jīng)常使用色譜柱,化學(xué)雜質(zhì)和固體懸浮液顆粒等會(huì)逐漸積累,色譜性能在使用過程中開始下降。流動(dòng)相或樣品中存在的大顆粒雜質(zhì)開始沉積在色譜柱的入口上,從而干擾流動(dòng)的均勻性。較小的顆粒會(huì)導(dǎo)致背壓增加,導(dǎo)致阻塞固定相中的流路。 污染物有哪些? 1、反相分離中高度保留的化合物,例如脂肪酸。 2、不可逆地保留的化合物,如殘留的蛋白物質(zhì),在樣品提取時(shí)并未完全去除。解決這個(gè)問題可以在HPLC分析之前對(duì)樣品中的蛋白質(zhì)進(jìn)行去蛋白化。 3、顆粒雜質(zhì),可能是樣品未過濾,系統(tǒng)組件(例如泵或進(jìn)樣器中的密封件)的磨損導(dǎo)致產(chǎn)生顆粒雜質(zhì)。又或者是進(jìn)樣時(shí)溶劑中本身還有顆粒物雜質(zhì),沒有過濾導(dǎo)致顆粒物質(zhì)進(jìn)入系統(tǒng)。建議使用溶劑進(jìn)樣口過濾器,過濾掉微小顆粒物質(zhì),避免進(jìn)入到HPLC系統(tǒng)中。 恒譜生2μ,5μ,10μ,20μm液相色譜儀流動(dòng)相入口溶劑過濾器,保護(hù)泵、單向止回閥 、進(jìn)樣器 、色譜柱免受有害顆粒污染物的損壞;吸濾阻力較小,較大的圓柱形篩板表面積,幾乎沒有背壓;吸濾頭尺寸較小,可用于多種小瓶口的存儲(chǔ)池容器;不會(huì)將空氣引入系統(tǒng),無氣泡進(jìn)入流動(dòng)相管路,儲(chǔ)液瓶溶劑抽取利用率可達(dá)99%以上,大大減少瓶底溶劑因無法凈真空吸取而造成的浪費(fèi);設(shè)有多階管路接頭,兼容多種內(nèi)徑溶劑流動(dòng)相管路,不需要更換吸濾頭即可匹配不同規(guī)格的吸管;產(chǎn)品兼 容性高,適用于各種品牌的HPLC系統(tǒng)。 4、柱內(nèi)殘留緩沖液,干燥后導(dǎo)致結(jié)晶沉淀。使用色譜柱后用HPLC級(jí)純水或緩沖溶液洗滌色譜柱可防止此類鹽沉淀的形成。 什么是保護(hù)柱? 保護(hù)柱是安裝在進(jìn)樣器和分析柱之間的,截留導(dǎo)致色譜柱篩板堵塞、柱頭塌陷和柱效下降的化學(xué)物質(zhì)和顆粒物。化學(xué)物質(zhì)和顆粒物會(huì)污染、堵塞色譜柱,給分析帶來不良影響等。這時(shí)通過在色譜柱前安裝分析保護(hù)柱可以防止其產(chǎn)生,能起保護(hù)色譜柱的作用。保護(hù)柱zui好與分析柱具有相同的填料,以消除分離的復(fù)雜性。保護(hù)柱的內(nèi)部ID應(yīng)與分析柱相當(dāng) ,以最小化背壓。保護(hù)柱需要定期更換,可根據(jù)例如背壓增加,峰展寬和峰保留時(shí)間的變化來決定更換的周期。 恒譜生建議您可以有效地利用、定期更換色譜保護(hù)柱,以延長色譜柱的壽命。
1714人看過
- 2022-12-06 11:15:18賽默飛同“芯”協(xié)力系列云上課堂開課啦!
- 目前國內(nèi)疫情多發(fā),線下活動(dòng)受到了很多限制,但我們?nèi)匀幌M軌蚩朔咔榈牟淮_定性,貼近客戶為客戶提供交流溝通的平臺(tái),為此賽默飛世爾科技半導(dǎo)體業(yè)務(wù)部門計(jì)劃舉辦同“芯”協(xié)力系列云上課堂。本系列云上課堂將從各項(xiàng)分析技術(shù)的基本原理與優(yōu)勢出發(fā),進(jìn)而介紹針對(duì)的應(yīng)用場景與案例,以及相關(guān)技術(shù)與工作流程的最 新開發(fā)進(jìn)展。從技術(shù)類型上該系列課堂將涵蓋用于物性失效分析的掃描電鏡,雙束電鏡,等離子雙束電鏡,Laser PFIB三束系統(tǒng)和透射電鏡,用于電性失效分析的熱失效定位,光學(xué)失效定位,納米探針,電路修補(bǔ)系統(tǒng),以及靜電放電與電過應(yīng)力測試系統(tǒng)。這些產(chǎn)品看似獨(dú)立,但只有將這些不同的技術(shù)有機(jī)鏈接起來才能為不同的細(xì)分行業(yè)提供全方位完整的工作流程,這是賽默飛的優(yōu)勢所在。所以無論您是行業(yè)新人或是大咖,相信您都可以從中有所獲益,這也是我們舉辦該系列課堂的初衷。欲知詳情,請關(guān)注我們后續(xù)介紹,并即刻報(bào)名參加將于12月14日14點(diǎn)舉辦的第 一場同“芯”協(xié)力云上課堂。
107人看過
- 2023-07-22 15:28:1610KV高壓電力冷縮電纜終端頭 三芯戶內(nèi)戶外接頭 冷縮管電纜附件
- 冷縮電纜終端頭是利用彈性體材料(常用的有硅橡膠和乙丙橡膠)在工廠內(nèi)注射硫化成型,再經(jīng)擴(kuò)徑、襯以塑料螺旋支撐物構(gòu)成各種電纜附件的部件。現(xiàn)場安裝時(shí),將這些預(yù)擴(kuò)張件套在經(jīng)過處理后的電纜末端或接頭處,抽出內(nèi)部支撐的塑料螺旋條(支撐物),壓緊在電纜絕緣上而構(gòu)成的電纜附件。因?yàn)樗窃诔叵驴繌椥曰乜s力,而不是像熱收縮電纜附件要用火加熱收縮,故俗稱冷收縮電纜附件。現(xiàn)在普遍都采用冷收縮應(yīng)力控制管,電壓等級(jí)從10kV到35kV。冷縮電纜終端頭,1kV級(jí)采用冷收縮絕緣管作增強(qiáng)絕緣,10kV級(jí)采用帶內(nèi)外半導(dǎo)電屏蔽層的接頭冷收縮絕緣件。三芯電纜終端分叉處采用冷收縮分支套。冷縮電纜終端頭具有體積小、操作方便、迅速、無需專用工具、適用范圍寬和產(chǎn)品規(guī)格少等優(yōu)點(diǎn)。與熱收縮式電纜附件相比,不需用火加熱,且在安裝以后挪動(dòng)或彎曲不會(huì)像熱收縮式電纜附件那樣出現(xiàn)附件內(nèi)部層間脫開的危險(xiǎn)(因?yàn)槔淇s電纜終端頭靠彈性壓緊力)。與預(yù)制式電纜附件相比,雖然都是靠彈性壓緊力來保證內(nèi)部界面特性,但是它不像預(yù)制式電纜附件那樣與電纜截面一一對(duì)應(yīng),規(guī)格多。必須指出的是,在安裝到電纜上之前,預(yù)制式電纜附件的部件是沒有張力的,而冷縮電纜終端頭是處于高張力狀態(tài)下,因此必須保證在貯存期內(nèi),冷收縮式部件不應(yīng)有明顯的變形或彈性應(yīng)力松弛,否則安裝在電纜上以后不能保證有足夠的彈性壓緊力,從而不能保證良好的界面特性。
84人看過
- 2022-12-01 19:35:00“芯”向未來 | 珀金埃爾默光刻膠研發(fā)相關(guān)解決方案(下集)
- 在《光刻膠研發(fā)相關(guān)解決方案推薦(上集)》 中推薦了兩個(gè)光刻膠研發(fā)相關(guān)解決方案,這次我們來介紹一下光刻膠曝光動(dòng)力學(xué)原位測試與光刻膠DILL模型建立的相關(guān)解決方案。光刻膠曝光動(dòng)力學(xué)原位測試紫外光-功率補(bǔ)償型差示掃描量熱分析儀(用于光刻膠在不同紫外波段下的曝光動(dòng)力學(xué)研究)曝光動(dòng)力學(xué)研究對(duì)于光刻膠的研發(fā)異常關(guān)鍵,因?yàn)槠湫苤苯記Q定了制程良品率和生產(chǎn)效率。為了更加準(zhǔn)確原位模擬光刻膠在不同紫外-可見波段下的曝光歷程,建議增加功率補(bǔ)償型差示掃描量熱分析儀(DSC)和紫外光源聯(lián)用設(shè)備,光源可選汞燈或者LED光源分別模擬不同波段范圍的實(shí)際需求,比如:模擬i線-365 nm,g線-436 nm或者h(yuǎn)線-405nm采用汞燈,DUV區(qū)間則選擇LED光源等等。目前市面上的DSC分為熱流型和功率補(bǔ)償型兩種原理。前者僅適合常規(guī)的熔點(diǎn)或結(jié)晶過程的測定,而功率補(bǔ)償型DSC 8500具備更高的量熱靈敏度,極短的瞬態(tài)背景干擾,且可主動(dòng)補(bǔ)償由于紫外光源照射或固化過程產(chǎn)生的額外背景溫度/熱量擾動(dòng),非常適合用于研究光刻膠的固化動(dòng)力學(xué)過程,為研發(fā)更加穩(wěn)定可靠的新一代無機(jī)金屬氧化物復(fù)合光刻膠提供準(zhǔn)確熱力學(xué)數(shù)據(jù)支撐。光刻膠DILL模型建立——為理論計(jì)算提供支撐高性能紫外-可見-近紅外分光光度計(jì) [1](輔助建立DILL透光模型)標(biāo)量衍射原理計(jì)算模擬光刻膠的曝光過程一般采用Dill方程,以Dill模型或者M(jìn)ack模型計(jì)算光刻膠的顯影過程,獲得其在單位體積分布范圍所吸收的光能大小,該大小最 終決定了光刻膠曝光過程中各個(gè)組分自身化學(xué)結(jié)構(gòu)的變化速率(反應(yīng)速率)[2]。簡言之,我們必須保證所研發(fā)的光刻膠在固定的曝光時(shí)效內(nèi)實(shí)現(xiàn)自上而下的均勻透光、反應(yīng)。DILL模型具備A,B和C三個(gè)參數(shù)。A代表與曝光相關(guān)的吸收參數(shù),B代表與曝光非相關(guān)的吸收參數(shù),C則代表光刻膠的漂白速率(化學(xué)物質(zhì)的光化學(xué)反應(yīng)速率)。利用高性能Lambda 1050+ UV-Vis光譜儀可以測定光刻膠在曝光前后的吸光度信號(hào),輔助計(jì)算DILL模型所需的各個(gè)關(guān)鍵參數(shù),為研究新型光刻膠的曝光顯影模擬提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)支撐。PerkinElmer光刻膠解決方案PerkinElmer的科學(xué)家們將會(huì)持續(xù)不斷的用更加全面的解決方案助力半導(dǎo)體行業(yè)蓬勃發(fā)展。參考文獻(xiàn):[1] Andrew Estroff, Photoresist Absorbance and Bleaching.[2] Chris Mack, Fundamental principles of optical lithography: the science of microfabrication, John Wiley & Sons, 2007.
191人看過