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2025-01-20 11:06:35ALD工藝
ALD工藝,即原子層沉積,是一種將物質以單原子層形式逐層沉積在基底表面的方法。該技術基于表面自限制反應,能實現納米級精確控制,形成高質量、高保形性的薄膜。ALD廣泛應用于半導體、光學、催化等領域,用于制備功能薄膜、涂層及納米結構,具有工藝溫度低、重復性好、均勻性和一致性高等優點。

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