- 2025-01-10 10:52:21超高溫結構材料真空蠕變試驗機
- 超高溫結構材料真空蠕變試驗機是一種用于測試材料在高溫、真空環(huán)境下的蠕變性能的專用設備。該試驗機采用先進的加熱技術和真空系統(tǒng)，能夠模擬極端工況下的材料行為，精確測量材料的蠕變速率、蠕變斷裂時間等關鍵參數(shù)。其設計精密、功能強大，適用于航空航天、核工業(yè)等領域的高溫結構材料研發(fā)與評估，為材料科學家和工程師提供重要的實驗數(shù)據(jù)支持。
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超高溫結構材料真空蠕變試驗機資訊
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- 近日，河南省科學院碳基復合材料研究院河南省科學院材料創(chuàng)新基地先進復合材料制備及考核中心儀器設備購置項目(第二批)項目進行公開招標，并于2025年01月02日09時00分開標。
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超高溫結構材料真空蠕變試驗機問答
- 2024-10-29 15:29:17蠕變試驗機與萬能試驗機的區(qū)別
- 在材料測試領域中，蠕變試驗機和萬能試驗機是兩種常見的設備，它們在性能測試、結構設計和應用領域上各有不同。盡管兩者都用于評估材料性能，但在具體測試目的和方法上存在明顯差異。本文將詳細探討蠕變試驗機與萬能試驗機的區(qū)別，從功能、測試原理、應用場景以及技術要求等方面進行深入分析，以幫助讀者更好地理解如何在實際應用中選擇合適的設備。一、蠕變試驗機的特點蠕變試驗機主要用于研究材料在恒定載荷和特定溫度條件下的時間依賴性變形行為，通常適用于對材料的長期穩(wěn)定性和持久強度進行測試。蠕變測試的關鍵在于評估材料在持續(xù)受力環(huán)境中的變形和失效特征，因此蠕變試驗機通常需要具備高精度的溫度和力控制系統(tǒng)，以保證在長時間內維持穩(wěn)定的測試環(huán)境。測試原理：蠕變試驗機通過施加恒定的載荷和溫度，記錄材料在受力狀態(tài)下的變形隨時間的變化過程，進而分析其蠕變特性和失效模式。應用領域：蠕變測試廣泛應用于金屬、合金、塑料和高分子材料等領域，尤其是在高溫環(huán)境下工作的材料，如航空航天、能源行業(yè)的關鍵構件。二、萬能試驗機的特點萬能試驗機則是一種多功能測試設備，廣泛用于測定材料的力學性能，如拉伸、壓縮、彎曲等。與蠕變試驗機不同，萬能試驗機側重于材料在短時間內的極限強度和變形特性，并且可以適應多種力學性能的測試需求。測試原理：萬能試驗機通過對材料施加不同類型的負載（如拉伸、壓縮或剪切），測定材料的變形響應，從而獲取其抗拉強度、抗壓強度和彈性模量等性能指標。應用領域：萬能試驗機應用廣泛，可用于金屬、非金屬、復合材料等各種材料的力學性能測試，適用于材料研發(fā)、質量控制和生產檢驗等環(huán)節(jié)。三、蠕變試驗機與萬能試驗機的主要區(qū)別從上述分析可以看出，蠕變試驗機和萬能試驗機在測試原理、應用領域和設備設計上有顯著區(qū)別。以下從幾個關鍵方面進一步總結兩者的不同：測試目的：蠕變試驗機專注于評估材料在長期載荷下的變形和失效行為，而萬能試驗機則側重于材料的基本力學性能，如強度、彈性模量等。時間因素：蠕變試驗需要長時間的加載過程，通常持續(xù)數(shù)小時到數(shù)千小時；而萬能試驗機通常在短時間內完成測試，以便快速獲取材料的力學參數(shù)。環(huán)境控制：蠕變試驗機對溫度和載荷的穩(wěn)定性要求較高，通常配備恒溫裝置；萬能試驗機則側重于負載和位移控制，對環(huán)境溫度的要求相對較低。適用材料：蠕變試驗機主要用于耐高溫和耐久性要求較高的材料測試，而萬能試驗機則適合于各種材料的基礎力學性能測試。
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- 2021-01-19 15:20:47蠕變試驗機可以做高溫拉伸么?
- 蠕變試驗機可以做高溫拉伸么?
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- 2023-02-15 14:54:00真空蒸發(fā)鍍膜技術原理
- 真空蒸發(fā)鍍膜技術原理 一、蒸發(fā)鍍膜簡述：真空蒸發(fā)鍍膜（簡稱真空蒸鍍）是指在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到固體（稱為襯底或基片）表面，凝結形成固態(tài)薄膜的方法。由于真空蒸發(fā)法或真空蒸鍍法主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產生，所以又稱熱蒸發(fā)法或者熱蒸鍍，所配套的設備稱之為熱蒸發(fā)真空鍍膜機。這種方法zui早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一。 盡管后來發(fā)展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍優(yōu)越，但真空蒸發(fā)技術仍有許多優(yōu)點，如設備與工藝相對比較簡單，即可鍍制非常純凈的膜層，又可制備具有特定結構和性質的膜層等，仍然是當今非常重要的鍍膜技術。近年來，由于電子轟擊蒸發(fā)，高頻感應蒸發(fā)及激光蒸發(fā)等技術在蒸發(fā)鍍膜技術中的廣泛應用，使這一技術更趨完善。 近年來，該法的改進主要是在蒸發(fā)源上。為了抑制或避免薄膜原材料與蒸發(fā)加熱器發(fā)生化學反應，改用耐熱陶瓷坩堝，如 BN坩堝。為了蒸發(fā)低蒸氣壓物質，采用電子束加熱源或激光加熱源。為了制造成分復雜或多層復合薄膜，發(fā)展了多源共蒸發(fā)或順序蒸發(fā)法。為了制備化合物薄膜或抑制薄膜成分對原材料的偏離，出現(xiàn)了反應蒸發(fā)法等。 二、熱蒸鍍工作原理： 真空蒸發(fā)鍍膜包括以下三個基本過程∶（1）加熱蒸發(fā)過程。包括由凝聚相轉變?yōu)闅庀啵ü滔嗷蛞合唷鷼庀啵┑南嘧冞^程。每種蒸發(fā)物質在不同溫度時有不相同的飽和蒸氣壓;蒸發(fā)化合物時，其組分之間發(fā)生反應，其中有些組分以氣態(tài)或蒸氣進入蒸發(fā)空間。（2）氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間的輸運過程，即這些粒子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。飛行過程中與真空室內殘余氣體分子發(fā)生碰撞的次數(shù)，取決于蒸發(fā)原子的平均自由程，以及從蒸發(fā)源到基片之間的距離，常稱源-基距。（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面上的沉積過程，即是蒸氣凝聚、成核、核生長、形成連續(xù)薄膜。由于基板溫度遠低于蒸發(fā)源溫度，因此，沉積物分子在基板表面將直接發(fā)生從氣相到固相的相轉變過程。將膜材置于真空鍍膜室內，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當蒸發(fā)分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時，蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子（主要是殘余氣體分子）的碰撞阻礙，可直接到達被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結其上而成膜，為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，對基片進行適當?shù)募訜崾潜匾摹槭拐舭l(fā)鍍膜順利進行，應具備蒸發(fā)過程中的真空條件和制膜過程中的蒸發(fā)條件。 蒸發(fā)過程中的真空條件：真空鍍膜室內蒸汽分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離（稱做蒸距）時，就會獲得充分的真空條件。為此，增加殘余氣體的平均自由程，借以減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞概率，把真空鍍膜室抽成高真空是非常必要的。否則，蒸發(fā)物原子或分子將與大量空氣分子碰撞，使膜層受到嚴重污染，甚至形成氧化物；或者蒸發(fā)源被加熱氧化燒毀；或者由于空氣分子的碰撞阻擋，難以形成均勻連續(xù)的薄膜。 三、真空蒸鍍特點: 優(yōu)點：設備比較簡單 、操作容易；制成的薄膜純度高、質量好，厚度可較準確控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生長機理比較簡單；缺點：不容易獲得結晶結構的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附著力較小；工藝重復性不夠好等。 四、蒸發(fā)源的類型及選擇： 蒸發(fā)源是用來加熱膜材使之氣化蒸發(fā)的裝置。目前所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱，電子束加熱，感應加熱，電弧加熱和激光加熱等多種形式。電阻加熱蒸發(fā)裝置結構較簡單，成本低，操作簡便，應用普遍。電阻加熱式蒸發(fā)源的發(fā)熱材料一般選用W、Mo、Ta、Nb等高熔點金屬，Ni、Ni-Cr合金。把它們加工成各種合適的形狀，在其上盛裝待蒸發(fā)的膜材。一般采用大電流通過蒸發(fā)源使之發(fā)熱，對膜材直接加熱蒸發(fā)，或把膜材放入石墨及某些耐高溫的金屬氧化物（如Al2O3，BeO）等材料制成的坩堝中進行間接加熱蒸發(fā)。采用電阻加熱法時應考慮的問題是蒸發(fā)源的材料及其形狀，主要是蒸發(fā)源材料的熔點和蒸氣壓，蒸發(fā)源材料與薄膜材料的反應以及與薄膜材料之間的濕潤性。因為薄膜材料的蒸發(fā)溫度（平衡蒸氣壓為1. 33 Pa時的溫度）多數(shù)在1 000 ~2 000 K之間，所以蒸發(fā)源材料的熔點需高于這一溫度。而且．在選擇蒸發(fā)源材料時必須考慮蒸發(fā)源材料大約有多少隨蒸發(fā)而成為雜質進入薄膜的問題。因此，必須了解有關蒸發(fā)源常用材料的蒸氣壓。為了使蒸發(fā)源材料蒸發(fā)的分子數(shù)非常少，蒸發(fā)溫度應低于蒸發(fā)源材料平衡蒸發(fā)壓為1. 33×10-6Pa時的溫度。在雜質較多時，薄膜的性能不受什么影響的情況下，也可采用與1. 33×10-2Pa對應的溫度。綜上所述，蒸發(fā)源材料的要求：1、高熔點：必須高于待蒸發(fā)膜材的熔點（常用膜材熔點1000～2000℃）2、飽和蒸氣壓低：保證足夠低的自蒸發(fā)量，不至于影響系統(tǒng)真空度和污染膜層3、化學性能穩(wěn)定：在高溫下不應與膜材發(fā)生反應，生成化合物或合金化4、良好的耐熱性5、原料豐富、經濟耐用 蒸發(fā)材料對蒸發(fā)源材料的“濕潤性”：選擇蒸發(fā)源材料時，必須考慮蒸鍍材料與蒸發(fā)材料的“濕潤性”問題。蒸鍍材料與蒸發(fā)源材料的濕潤性”與蒸發(fā)材料的表面能大小有關。高溫熔化的蒸鍍材料在蒸發(fā)源上有擴展傾向時，可以認為是容易濕潤的;如果在蒸發(fā)源上有凝聚而接近于形成球形的傾向時，就可以認為是難干濕潤的在濕潤的情況下，材料的蒸發(fā)是從大的表面上發(fā)生的且比較穩(wěn)定，可以認為是面蒸發(fā)源的蒸發(fā);在濕潤小的時候，一般可認為是點蒸發(fā)源的蒸發(fā)。如果容易發(fā)生濕潤，蒸發(fā)材料與蒸發(fā)源十分親和，蒸發(fā)狀態(tài)穩(wěn)定;如果是難以濕潤的，在采用絲狀蒸發(fā)源時，蒸發(fā)材料就容易從蒸發(fā)源上掉下來。 五、合金與化合物的蒸發(fā)： 1、合金的蒸發(fā)：采用真空蒸發(fā)法制作預定組分的合金薄膜，經常采用瞬時蒸發(fā)法、雙蒸發(fā)源法。分餾現(xiàn)象：當蒸發(fā)二元以上的合金及化合物時，蒸發(fā)材料在氣化過程中，由于各成分的飽和蒸氣壓不同，使得其蒸發(fā)速率也不同，得不到希望的合金或化合物的比例成分，這種現(xiàn)象稱為分餾現(xiàn)象。（1）瞬時蒸發(fā)法：瞬時蒸發(fā)法又稱“閃爍”蒸發(fā)法。將細小的合金顆粒，逐次送到非常熾熱的蒸發(fā)器中，使一個一個的顆粒實現(xiàn)瞬間完全蒸發(fā)。關鍵以均勻的速率將蒸鍍材料供給蒸發(fā)源粉末粒度、蒸發(fā)溫度和粉末比率。如果顆粒尺寸很小，幾乎能對任何成分進行同時蒸發(fā)，故瞬時蒸發(fā)法常用于合金中元素的蒸發(fā)速率相差很大的場合。優(yōu)點：能獲得成分均勻的薄膜，可以進行摻雜蒸發(fā)等。缺點：蒸發(fā)速率難以控制，且蒸發(fā)速率不能太快。 （2）雙源蒸發(fā)法：將要形成合金的每一成分，分別裝入各自的蒸發(fā)源中，然后獨立地控制各個蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率，使達到基板的各種原子與所需合金薄膜的組成相對應。為使薄膜厚度分布均勻，基板常需要進行轉動。2、化合物的蒸發(fā)：化合物的蒸發(fā)方法：（1）電阻加熱法（2）反應蒸發(fā)法（3）雙源或多源蒸發(fā)法（4）三溫度法（5）分子束外延法反應蒸發(fā)法主要用于制備高熔點的絕緣介質薄膜，如氧化物、氮化物和硅化物等。而三溫度法和分子外延法主要用于制作單晶半導體化合物薄膜，特別是III-V族化合物半導體薄膜、超晶格薄膜以及各種單晶外延薄膜等。 將活性氣體導入真空室，使活性氣體的原子、分子和從蒸發(fā)源逸出的蒸發(fā)金屬原子、低價化合物分子在基板表面淀積過程中發(fā)生反應，從而形成所需高價化合物薄膜的方法。不僅用于熱分解嚴重，而且用于因飽和蒸氣壓較低而難以采用電阻加熱蒸發(fā)的材料。經常被用來制作高熔點的化合物薄膜，特別是適合制作過渡金屬與易分解吸收的02， N2等反應氣體所組成的化合物薄膜（例如SiO2、ZrN、AlN、SiC薄膜）。在反應蒸發(fā)中，蒸發(fā)原子或低價化合物分子與活性氣體發(fā)生反應的地方有三種可能，即蒸發(fā)源表面、蒸發(fā)源到基板的空間和基板表面。
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- 2023-07-29 11:31:59真空BNC連接器產品優(yōu)勢
- 同軸真空BNC接頭是一種常見的射頻連接器，廣泛應用于射頻和微波通信、數(shù)據(jù)處理及測量設備。BNC（Bayonet Neill-Concelman）接頭是由美國的Paul Neill和Carl Concelman于1945年發(fā)明的。以下是同軸真空BNC接頭的一些特點和優(yōu)勢：1. 易于連接和斷開：BNC接頭采用了快速卡口式結構，使得連接和斷開變得非常方便。用戶只需將插頭插入座子，然后旋轉90度即可完成連接。2. 較低的插損：同軸真空BNC接頭的設計使得在連接過程中的信號損失較低，提高了設備的性能。3. 良好的屏蔽性能：BNC接頭具有良好的屏蔽性能，能有效阻止外部電磁干擾，確保信號的穩(wěn)定傳輸。4. 兼容性強：BNC接頭廣泛應用于各種設備之間的連接，具有很強的通用性和兼容性。5. 經濟實用：同軸真空BNC接頭的生產成本相對較低，使得它在許多應用場景中成為主要的連接器。6. 頻率范圍：BNC接頭的工作頻率范圍可達到4 GHz，適用于多種射頻和微波通信場景。7. 真空兼容性：同軸真空BNC接頭經過特殊處理，可在真空環(huán)境中使用，適用于高真空和超高真空系統(tǒng)。需要注意的是，隨著通信技術的發(fā)展，BNC接頭的頻率范圍可能不足以滿足一些高性能應用的需求。在這種情況下，可以考慮使用其他更高頻率的同軸連接器，如SMA、N型等。
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- 2023-10-11 18:02:43請教質譜儀真空腔體的表面處理!
- 最近有接觸到質譜的真空腔體，拆機后發(fā)現(xiàn)腔內（鋁合金基材)表面像做了鏟花一樣的紋路，見附圖，請教各位大神，這是什么表面處理？有什么益處？謝謝指點！
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