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儀器網/ 應用方案/ Zeta電位法監控氮化硅表面二氧化硅氧化層的去除

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在空氣中保存并且接觸水溶液后，PH值滴定實驗 測得氮化硅片的等電點（IEP）為PH4與氧化硅 片相比，IEP移向了更高的PH值然而，如果用 5%的HF酸處理幾秒鐘，IEP變為5.3，這說明HF 有效出去了氮化硅表面的自生氧化層如果在HF 處理之前先用Piranha 溶液處理一下，氧化物層 將會被處理的更徹底 安東帕SurPASS固體表面分析儀/固體電位運動分析儀/固體表面ZETA電位測量儀

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