日本Advance Riko 超高溫高速退火爐：

。桌面式：HT-RTA59HD

。帶水淬：CAS-59AQ

產品介紹：

HT-RTA59HD 這款桌面式超高溫高速退火爐以大功率點聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，對SiC以及其它高熔點材料進行退火處理。

應用：

? SiC氧化膜的生成和激活；
? 半導體開發與研究；
? 玻璃基板、陶瓷、復合材料等的熱處理；

? 作為熱處理爐對高熔點材料進行熱處理；
? 陶瓷材料的熱沖擊測試。 

特點：

?？梢栽?0s內加熱到超高溫1800℃；
?？梢约訜岷笾苯铀?；
。紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；

。緊湊的桌面型設計；
。通過USB與電腦連接，輸入溫度參數；
。在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。

帶水淬的型號：CAS-59AQ

設備參數：