【Gatan】697 Ilion II Datasheet寬束氬離子拋光系統

產品綜合介紹

產品功能介紹

氬離子拋光系統是一個用于樣品的截面制備及平面拋光的桌面型制樣設備，以便樣品在SEM及其它設備上進行檢測分析。可利用IlionII進行拋光加工的材料種類十分廣泛，包括由多元素組成的試樣，以及具有不同的機械硬度、尺寸和物理特性的合金、半導體材料、聚合物和礦物等。如焊縫截面，集成電路焊點，多層薄膜截面，顆粒、纖維斷面，復合材料、陶瓷、金屬及合金、巖石礦物及其他無機非金屬等各種材料的SEM、EBSD樣品。

品牌介紹

美國Gatan公司成立于1964年并于70年代末進入ZG市場。Gatan公司以其產品的高性能及技術的先進性在全球電鏡界享有極高聲譽。

作為世界領xian的設計和制造用于增強和拓展電子顯微鏡功能的附件廠商，其產品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。產品應用范圍包括材料科學、生命科學、地球物理學、電子學，能源科學等領域， 客戶范圍涵蓋全球的科研院所，高校，各類檢測機構及大型工業企業實驗室，并且在國際科學研究領域得到了廣泛認同。

經銷商介紹

歐波同有限公司是ZG領xian的微納米技術服務供應商，是一家以外資企業作為投資背景的高新技術企業，總部位于香港，分別在北京、上海、遼寧、山東等地設有分公司和辦事處。作為蔡司電子顯微鏡、Gatan掃描電子顯微鏡制樣設備及附屬分析設備在ZG地區最重要的戰略合作伙伴，公司秉承“打造國內影響力的儀器銷售品牌”的經營理念，與蔡司，Gatan品牌強強聯合，正在為數以萬計的ZG用戶提供高品質的產品與國際技術服務。

產品主要技術特點

氬離子拋光系統采用兩支具有低能聚集的小型潘寧離子槍，可提供快速柔和的拋光效果。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果，用于樣品的拋光。新型低能聚焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個加速電壓范圍內都保持恒定。每個槍都可準確獨立地將離子束對中在樣品上，從而產生極高的離子拋光速率。在操作過程中，可隨時改變槍的角度。通過控制氣體流量可將槍電流變化范圍控制在0~100mA之間。在觸摸屏上通過手動或者自動方式調節氣體流量使每個槍的工作電流得到zuiyou化。

集成的10英寸彩色觸摸屏計算機可對Ilion II的所有操作參數進行完全控制。此界面不僅可以設定所有參數并能夠監控拋光過程。所有的操作參數還可以存為配方，調用配方可獲得高精度重復實驗。

渦輪分子泵搭配兩級隔膜泵保證了超潔凈環境。GatanZG的氣動控制Whisperlock技術能實現快速樣品交換（< 1分鐘），省去了換樣過程中必須完全泄真空至大氣的煩惱。

1. 氣鎖裝置實現快速樣品交換、始終保持潔凈的高真空狀態

2. 10英寸觸摸屏可對系統進行完全控制與監測

3. 配方模式的控制界面，用于一鍵操作

4. 質量流量控制器提供精確和可重復的氬離子電流的控制

5. 槍電壓范圍為100V到8000V的三元（陰極、陽極與聚焦極）構造潘寧離子槍

6. 每個槍的拋光角度可調范圍為-10度~10度，增量為0.1度

7. 扇形拋光角度可變且可程序化，范圍從10度~90度

8. 離子槍無需零件更換，壽命超過30,000小時

9. GatanZG的樣品/擋板配置，裝樣簡單，再次拋光位置準確

10. 獨特的離子束調制功能，可進行扇形拋光和平面拋光

11. 潔凈的真空系統，分子泵與隔膜泵搭配

12. 操作簡單，維護方便

拋光前- 俯視SEM圖CuInSe2樣品 拋光90S后SEM 圖 CuInSe樣品

產品主要技術參數：

1、 離子槍：兩個配有稀土磁鐵的三元構造（陰極、陽極與聚焦極）潘寧離子槍，聚焦離子束設計,高性能無耗材

2、 拋光角度： +10° 到 -10° ，每個離子槍可獨立調節

3、 離子束能量：100 V 到 8.0 kV

4、 離子束流密度：10 mA/cm2 峰值

5、 拋光速度：300 μm/h（8.0 kV條件下對于硅試樣）

4.2樣品臺

6、樣品裝載：IlionZG的樣品擋板, 裝樣簡單，再次拋光位置準確，可重復使用，配合Sample Stub可直接轉至SEM中觀察

7、樣品旋轉：0.5到6 rpm連續可調

8、束流調制：獨特的離子束調制功能，可進行扇形截面拋光（扇形角度為10到90度可調）和平面拋光。

9、樣品觀察：數碼變焦顯微鏡，配有PC及Digital Micrograph軟件采集圖像，通過Gatan Digital Micrograph軟件可進行實時成像（300x2,200x）與圖像存儲和分析

10、液氮冷臺：配置液氮冷臺，樣品zuidi溫度可達-120°C,有效減少離子束對樣品造成的損傷

4.3真空系統

11、干泵系統：兩級隔膜泵支持80升/秒的渦輪分子泵

12、壓力：5x10-6 托基本壓力，8.5x10-5托工作壓力

13、真空規：冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級機械泵

14、樣品空氣鎖：獨特的Whisperlok設計，樣品更換時間<1Min，無需破樣品室真空

4.4用戶界面

15、10 英寸觸摸屏：操作簡單，且能夠完全程序化控制所有參數可進行配方操作。

16、配方操作模式：自定義不同的加工參數組合，實現一鍵操作。

產品主要應用領域：

EBSD樣品制備

截面樣品制備

金屬材料（合金，鍍層）

石油地質巖石礦物

光電材料

化工高分子材料

新能源電池材料

電子半導體器件

PCB電路版截面拋光SEM圖

鍍鋅鋼板截面拋光

Zn晶粒 Fe晶粒