技術(shù)參數(shù)：

l自動的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和**的導(dǎo)電噴鍍效果。

l通過高效低壓直流磁控頭進行冷態(tài)精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。

l操作容易快捷，可全自動或手動進行噴鍍操作，控制的參數(shù)包括自動放氣以及氬氣換氣控制。

l在自動模式下，可通過兩種方式進行控制鍍膜過程。可通過數(shù)字顯示器控制得到可重現(xiàn)的噴鍍效果，

l數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和**的鍍膜效果。

l可使用多種金屬靶材：Au，Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶為標配），靶材更換快速方便。

l樣品室大小：直徑120mmx120mm高(4.75x4.75")

l樣品臺：可以裝載12個SEM樣品座，高度可調(diào)范圍為50mm

l濺射控制：微處理器控制，安全互鎖，可調(diào)，最大電流40mA，程序化數(shù)字控制

l濺射頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護罩

l模擬計量：真空：Atm-0.001mbar，電流：0-50mA

l控制方法:自動氣體換氣和泄氣功能，自動處理排序，帶有“暫停”控制的數(shù)字定時器（5－300s），自動放氣.整個操作亦可全手動控制。

l真空泵：原裝進口，抽氣速率:6.0m3/小時，真空度到0.1mb所需時間30秒.

l桌上系統(tǒng):真空泵可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統(tǒng)

l保修期：免費保修一年