KRI Ion Source RFICP 140, Gridded RF Ion Source

KRI Ion Source RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源，非常適合于離子束濺射沉積、離子輔助沉積和離子束刻蝕。在離子束濺射工藝中，離子源配有離子光學元件，可以很好的控制離子束去濺射靶材，實現wan美的薄膜特性。同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中，**的離子光學元件能夠完成發散和聚集離子束的任務。就標準的型號而言，可以在離子能量為 100~1000 eV 范圍內獲得很高的離子密度。

KRI Ion Source 有柵極離子源RFICP 140產品詳細參數

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