主要用途：

本裝置可以和各類紅外光譜儀連用，進行各類原位光譜電化學實驗：在各類電化學調制的狀態下，原位采集紅外光譜信號，獲得被測物隨電化學調制變化的原位動態的分子結構變化信息，適合于各類有電化學行為的體系（如金屬腐蝕行為、有機催化過程、酶和DNA的氧化還原變化等）的原位動力學、熱力學研究。在分子水平下進行電化學研究，是當前世界上電分析化學研究的前沿和熱點。

注：所有原位光譜電化學池我們均能提供自制配套的電化學儀器和同步驅動觸發軟、硬件程序。實現真正意義上的原位光譜電化學檢測。

本裝置適用于各類常規紅外光譜儀，其特點是反射鏡位置和角度均可精細調節，而且光譜反射界面（通常是電極表面）的位置和角度也均可精密調節，保證了測量時最優化的光強度和信噪比

應用范圍：

電解工業，其中的氯堿工業是僅次于合成氨和硫酸的無機物基礎工業；

鋁、鈉等輕金屬的冶煉，銅、鋅等的精煉也都用的是電解法；

機械工業使用電鍍、電拋光、電泳涂漆等來完成部件的表面精整；

環境保護可用電滲析的方法除去氰離子、鉻離子等污染物；

化學電源；

金屬的防腐蝕問題，大部分金屬腐蝕是電化學腐蝕問題；

許多生命現象如肌肉運動、神經的信息傳遞都涉及到電化學機理。

顯微紅外的應用

?快速電極界面動力學過程

?高粘度、非流動體系的電化學反應過程檢

測

?腐蝕相關的研究

?細胞相關體系研究

反射式紅外光譜電化學法應用

?電極表面構建過程和變化研究

?多方調制系統的研究

真空型反射式紅外光譜電化學法的應用

?常規反射式紅外光譜電化學法的所有應用

?水溶液體系

?弱探針分子體系

透射式紅外光譜電化學法的應用

?非水體系

?弱吸附體系

?生物分子體系