德國 PVA TePla 等離子去膠機

型號：IoN Wave 10E等離子去膠機

IoN Wave 10E等離子去膠機是我們在微波等離子處理工藝中的zuixin產品。該批次式晶圓灰化設備成本低廉、尺寸適中、性能先進，特別適用于工廠、科研院所等領域。

IoN Wave 10E使用zuixin的、性能出色的組件和軟件，可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現最嚴格的質量控制。該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等領域。

IoN Wave 10E占地面積很小，安裝和維護簡單。依靠微波等離子技術，該設備在提供極高的光刻膠灰化速度的同時，大大降低了產品暴露在靜電放電（ESD）中。

先進的功能性：

。臺式設計，占地面積小

。石英腔室最大可容納8寸的晶圓，最多同時裝載25片6寸晶圓

。使用Windows操作系統的工業計算機控制

。符合Semi E95-1101要求的圖形用戶界面（GUI）

。軟件提供了不同的用戶訪問權限：操作員、工藝編寫、維護

。通過以太網進行遠程工藝監測

。機載診斷功能和報警記錄

。工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能

。液晶觸摸屏（LCD）操作面板

。基于在線網絡的模擬、培訓和支持程序

。安裝簡單快捷

典型應用

。 去除光刻膠

。 晶圓打膠

。濕法刻蝕前的晶圓清潔

。去除SU-8

。 刻蝕鈍化層

。失效分析中的器件開封

。 清潔和表面活化

。化學微量分析中的低溫材料灰化

。 過濾器和濾膜的清潔 

規格參數

工作腔室

材質                                            石英

尺寸                                            248mm直徑 x 397 mm長

腔門處直徑                                 241mm

容積                                           19.2 升

工藝氣體控制                            最多至6路氣體，MFC控制

基礎壓力                                    0.07 mbar (50 mTorr)

工藝壓力                                    0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)

抽真空時間                                大約1分鐘

微波發生器

頻率                                            2.45 GHz

輸出功率                                    最大1200W

供給需求

電源                                           220V，50 Hz，單相

工藝氣體                                   輸入壓力1-2 Bar

壓縮空氣                                   4-6 Bar，流速最高 56 升/分鐘   （間歇式）

吹掃氣體                                   1.3-2.7 Bar，流速最高 28 升/分鐘 （間歇式）

尺寸 寬/高/深                            775 x 749 x 781 mm

重量                                           135 千克

可選配置

。 推拉門

。 石英舟支撐桿

。溫控板

。 1%精度的真空規

。 壓力控制器

。指示燈柱

。 條形碼閱讀器

。 工藝氣體切換器

。 光譜終點檢測器

。 法拉第桶（次級等離子體）

。陶瓷腔室，耐化學腐蝕密封圈

。 打印機

。 油泵或干泵