濕法顯影腐蝕機(jī)(英文名：Developing， Wet Etching) 

型號(hào)：EDC-650Hz-8NPPB

產(chǎn)地：美國(guó)

一、濕法腐蝕機(jī)用途和特點(diǎn)：

1、用途：主要用微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上顯影，濕法腐蝕，清洗，沖洗，甩干與光刻、烘烤等設(shè)備配合使用。設(shè)備能滿(mǎn)足各類(lèi)以下尺寸的基片處理要求，并配制相應(yīng)的托盤(pán)夾具。

二、濕法腐蝕機(jī)主要性能指標(biāo)：

1.系統(tǒng)概述

1.1智能嵌鎖，系統(tǒng)蓋板具有智能嵌鎖裝置，確保操作安全；

1.2保護(hù)氣體，CDA（清潔干燥氣體）/氮?dú)猓∟2）,氣壓60~70PSI；

1.3通信接口，藍(lán)牙連接；

2.  基片及處理方式

2.1 基片尺寸滿(mǎn)足需要的200mm以?xún)?nèi)基底材料；

2.2 基片處理方式，手動(dòng)上下載；

3. 控制系統(tǒng)

3.1 用戶(hù)界面，650高精度數(shù)顯屏/基于Windows的SPIN3000操作軟件；

3.2 最大可存儲(chǔ)20個(gè)程序段；

3.3 最大51 驟工藝步驟；

3.4時(shí)間設(shè)定范圍，0.1S~99Min59.9S（最小增量0.1 S）；

3.5最大旋轉(zhuǎn)速度，3000 rpm，±0.5 rpm (帶安全罩)；

3.6馬達(dá)加速度，1–12000 rpm/s ；

4. 試劑分配系統(tǒng)

4.1 化學(xué)試劑分配

4.1.1  A標(biāo)準(zhǔn)腔洗 Bowl Wash  1路純水和1路氮?dú)猓?/span>

4.1.2  B 背部清洗 Back Riser 1路純水；

4.1.3  C 樣片沖洗甩干 1路純水和1路氮?dú)猓?/span>

4.1.4  D 自定義化學(xué)試劑可同時(shí)接入（根據(jù)用戶(hù)應(yīng)用選擇幾路液體）自定義的化學(xué)試劑（顯影液/腐蝕液/其他清洗液）；

4.2試劑供給方式

*4.2.1  A 系統(tǒng)所需純水和氮?dú)庖约皦嚎s氣體（可用氮?dú)馓娲┯蓪?shí)驗(yàn)室自行供應(yīng)；

4.2.2  B 自定義化學(xué)試劑由氣動(dòng)泵浦BP和壓力容器供給；

4.3 注射裝置采用日本原裝進(jìn)口霧的池內(nèi)專(zhuān)用噴嘴；

三、適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）

光刻膠顯影（KrF/ArF）

SU8厚膠顯影

顯影后清洗

PostCMP清洗

光罩去膠清洗

光刻膠去除

金屬Lift-off處理

刻蝕微刻蝕處理