產品信息
特 點
●膜厚測量范圍1nm~92μm(換算為SiO2)
●膜厚值高重復精度
●1點1秒以內的高速測量
●最小小點Φ3μm)中瞄準模式
●最適合圖案晶片的膜厚映射
●能夠取得圖案對準用圖像
裝置組裝示意圖
測量數據示意圖
測量光點周邊圖像
適應過程示例
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝等
銷售范圍售全國
入駐年限第5年
營業執照已審核
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聯系方式:19117096635
聯系我們時請說明在儀器網(www.shangjinews.cn)上看到的!
●膜厚測量范圍1nm~92μm(換算為SiO2)
●膜厚值高重復精度
●1點1秒以內的高速測量
●最小小點Φ3μm)中瞄準模式
●最適合圖案晶片的膜厚映射
●能夠取得圖案對準用圖像
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝等