對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。

1) 晶圓直徑（基板尺寸）

2) 標準光刻：碎片蕞大150毫米

3) 柔軟的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片

4) 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

5) 支持流程：柔軟的UV-NIL

6) 曝光源：汞光源或紫外線LED光源

7) 自動分離功能：不支持

8) 工作印章制作：外部

1) 頂部和底部對準能力

2) 高精度對準臺

3) 自動楔形誤差補償機制

4) 電動和配方控制的曝光間隙

5) 支持新的UV-LED技術

6) 蕞小化系統占地面積和設施要求

7) 分步流程指導

8) 遠程技術支持

9) 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。

1) 鍵對準

2) 紅外對中

3) 納米壓印光刻

4) 微接觸印刷