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外延科技 超高真空磁控濺射PVD
- 品牌：外延科技
- 型號： PVD
- 產(chǎn)地：安徽 合肥
- 供應(yīng)商報價：￥2000000
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上海愛儀通網(wǎng)絡(luò)科技有限公司
更新時間：2025-04-18 09:17:11 -
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- 同類產(chǎn)品樣品制備(45件)
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產(chǎn)品特點
- ? 原子級平整:RMS<0.1nm
? 大面積:1英寸到8英寸
? 多模式:ON/Off Targets
?超高真空:10-9 Torr
? 溫度:RT-1000度 詳細(xì)介紹
超高真空磁控濺射
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)的一種。
磁控濺射可 實現(xiàn)高速、低溫和低損傷的物理沉積，用于 制備金屬、半導(dǎo)體，絕緣體等多種材料。
因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶 電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射速率。
(超高真空磁控濺射)
超高真空磁控濺射
? 原子級平整:RMS<0.1nm
? 大面積:1英寸到8英寸
? 多模式:ON/Off Targets?超高真空:10-9 Torr
? 溫度:RT-1000度
(多靶桌面磁控)
桌面磁控濺射系統(tǒng)
三維樣品臺，傾斜0-45度
2inch 靶(數(shù)目定制)
閥門和氣路程控
快開式裝卸樣品
5分鐘實現(xiàn)快速換樣
觸摸屏控制，高度自動化
超高真空磁控濺射系統(tǒng)采用超高真空設(shè)計，所有靶槍全金屬密封，系統(tǒng)背景真空可以高達10-10Torr。專業(yè)的穹形檔板設(shè)計，可以避免靶之間的污染，并容許一腔更多的靶的緊湊排列，實現(xiàn)一腔室多種材料的組合以及共濺射沉積。采用特有的大尺寸激光加熱，我們還可以在高溫下 進行薄膜的單晶外延，制備高溫YBCO超導(dǎo)薄膜等量子材料.腔體結(jié)構(gòu)靈活 升級，還可以安裝離軸靶槍，實現(xiàn)多元材料的原子級制備。腔體可以與 LMBE、MBE等互聯(lián)，用于復(fù)雜多層膜的制備。
無所不在的薄膜技術(shù)
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