本文由 青島森泉光電有限公司 整理匯編

2020-11-06 10:34 745閱讀次數(shù)

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• Newport用于晶圓和掩膜檢測的運(yùn)動控制

  MKS 提供了多種高性能的、適用于晶圓檢測工具和其他運(yùn)動控制應(yīng)用的空氣軸承位移臺 , 經(jīng)驗(yàn)豐富的 MKS/Newport 應(yīng)用工程師與 OEM 客戶合作，為正在開發(fā)的半導(dǎo)體制造過程提供專門的自動化運(yùn)動控制解決方案，下文描述這些系統(tǒng)中用于提高精度和動態(tài)性能的技術(shù)。[詳細(xì)]

  2020-11-06 10:34

  應(yīng)用文章

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• 晶圓檢測

  晶圓檢測[詳細(xì)]

  2024-09-17 10:26

  安裝說明

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• Newport運(yùn)動控制系統(tǒng)配置與應(yīng)用

  運(yùn)動控制系統(tǒng)可以根據(jù)被測器件以多種方式定制。圖1顯示了光纖對準(zhǔn)系統(tǒng)的不同配置，從簡單的單通道單側(cè)設(shè)置到更復(fù)雜的雙面多通道設(shè)置，其中包括機(jī)器視覺、點(diǎn)膠/固化以及上下料等。其他設(shè)置可能包括水平和垂直波束的輸入和輸出。每種配置都需要一組獨(dú)特的運(yùn)動控制產(chǎn)品，這取決于該器件所需的性能。[詳細(xì)]

  2024-09-11 17:59

  課件

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• 無掩膜光刻機(jī)

  光刻機(jī)又名掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設(shè)計(jì)好的集成電路模板復(fù)刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。 根據(jù)光刻機(jī)的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫式光刻機(jī)，其中直寫式光刻機(jī)又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細(xì)分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機(jī)是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機(jī)，它通過直接對晶圓進(jìn)行曝光，實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實(shí)現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機(jī)不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點(diǎn)，使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等領(lǐng)域。[詳細(xì)]

  2024-09-15 17:53

  產(chǎn)品樣冊

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• 紫外掩膜曝光光刻機(jī)

  美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner)，是領(lǐng)xian的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗(yàn)，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國國家半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)、大聯(lián)大集團(tuán)、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。[詳細(xì)]

  2024-09-28 08:12

  產(chǎn)品樣冊

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• 8英寸晶圓隔紙

  8英寸晶圓隔紙硅片隔離紙晶圓硅片測試片隔紙由上海書培實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司生產(chǎn)提供，產(chǎn)品規(guī)格齊全，質(zhì)量優(yōu)越，歡迎客戶來電咨詢選購。8英寸晶圓隔紙硅片隔離紙晶圓硅片測試片隔紙產(chǎn)品介紹：IC紙,,表面電阻在107-109次方，電子產(chǎn)品隔離紙,無塵級別：100級，8英寸晶圓隔紙硅片隔離紙晶圓硅片測試片隔紙規(guī)格表格：產(chǎn)品名稱產(chǎn)品尺寸包裝規(guī)格產(chǎn)品單價(jià)品牌晶圓隔紙4英寸100張/包80元上海書培晶圓隔紙6英寸100張/包110元上海書培晶圓隔紙8英寸100張/包150元上海書培[詳細(xì)]

  2018-11-18 10:00

  產(chǎn)品樣冊

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• 晶圓上的光刻膠殘留和有機(jī)污染物的可視化

  電子行業(yè)如何通過使用熒光顯微鏡對晶圓和半導(dǎo)體進(jìn)行檢測？無論是質(zhì)量控制、失 效分析和研發(fā)都能從中受益 對更強(qiáng)大、更快速的電子設(shè)備（智能手機(jī)、計(jì)算機(jī)、平板電腦、顯示器等）的需求不斷增長，這推動了集成電路（IC）芯片 和半導(dǎo)體組件的圖案尺寸縮小到10納米以下[1-3]。為了實(shí)現(xiàn)更小的納米級尺寸，紫外光刻圖案化步驟的數(shù)量已經(jīng)增加，隨 之而來的是刻蝕過程中的缺陷和有機(jī)污染的可能性增加[2]。這種殘留污染可能對工藝控制、產(chǎn)量以及電子組件的性能和可 靠性產(chǎn)生負(fù)面影響[詳細(xì)]

  2024-08-22 14:50

  選購指南

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• 應(yīng)用案例 | 晶圓綁定線的失效檢測—離子研磨

  應(yīng)用案例 | 晶圓綁定線的失效檢測—離子研磨[詳細(xì)]

  2024-09-15 01:07

  應(yīng)用文章

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• 6英寸晶圓檢測顯微鏡：可靠觀察細(xì)微高度差異

  電子和半導(dǎo)體行業(yè)如何從用于半導(dǎo)體組件檢測的自動化和可重復(fù)的DIC顯微鏡中受益 電子和半導(dǎo)體行業(yè)如何從用于半導(dǎo)體組件檢測的自動化和可重復(fù)的DIC顯微鏡中受益 在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中，晶圓檢驗(yàn)對于識別和減少可能影響器件性能的缺陷至關(guān)重要。為了提高檢驗(yàn)的精確性和效率，光 學(xué)顯微鏡方案應(yīng)結(jié)合不同的對比方法，提供關(guān)于圖案化晶圓上可能存在的任何缺陷的準(zhǔn)確可靠信息。其中，在晶圓檢驗(yàn)中起 重要作用的一種對比方法是微分干涉對比（DIC）。[詳細(xì)]

  2024-08-22 14:48

  選購指南

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• 材料&地球科學(xué)，材料分析，金相學(xué)，晶圓檢測

  材料&地球科學(xué)，材料分析，金相學(xué)，晶圓檢測[詳細(xì)]

  2024-09-11 17:49

  應(yīng)用文章

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• 馬爾文 2830 ZT 晶圓分析儀

  馬爾文 2830 ZT 晶圓分析儀[詳細(xì)]

  2025-04-03 11:13

  產(chǎn)品樣冊

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• Newport 太陽光模擬器用于光水解研究

  背景介紹： 鐵酸鉍(BiFeO3)這類的鐵電半導(dǎo)體，由于其固有的特點(diǎn)可以加速光產(chǎn)生載流子，使得其在太陽能轉(zhuǎn)換和存儲方面的應(yīng)用越來越受到研究。然而，鐵酸鉍通常是使用復(fù)雜和昂貴的制造技術(shù)來制備的，如外延生長、射頻濺射和脈沖激光沉積等技術(shù)，這些在大規(guī)模生產(chǎn)制造鐵酸鉍時(shí)成本會很高。 Antonio Tricoli課題組報(bào)告了一個(gè)簡單且可伸縮的多孔鐵酸鉍(BiFeO3)鈣鈦礦半導(dǎo)體，通過測試發(fā)現(xiàn)其光電化學(xué)性能明顯提高。通過原子層沉積二氧化鈦覆蓋物和光輔助電沉積鈷氧化物/氫氧化物輔助催化劑作用下，從原始微不足道的光電流密度顯著增加到0.16 mA cm?2(在模擬1sun太陽輻照AM1.5G光譜下)。改進(jìn)的電荷轉(zhuǎn)移和電化學(xué)動力學(xué)促進(jìn)了光電氧化活性的顯著增強(qiáng)。而且，這種鐵酸鉍(BiFeO3)光陽極功能相比可逆氫電極將光電化學(xué)氧化起始電位從0.7 V降低到0.6 V。[詳細(xì)]

  2020-05-20 11:19

  應(yīng)用文章

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• 晶圓表面與溶液中微粒靜電作用

  晶圓表面與溶液中微粒靜電作用[詳細(xì)]

  2024-09-20 00:04

  應(yīng)用文章

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• [CN中文]美國Instec溫控晶圓夾盤HCC602

  [CN中文]美國Instec溫控晶圓夾盤HCC602[詳細(xì)]

  2015-08-28 00:00

  報(bào)價(jià)單

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• [CN中文]美國Instec溫控晶圓夾盤HCC302

  [CN中文]美國Instec溫控晶圓夾盤HCC302[詳細(xì)]

  2015-08-28 00:00

  報(bào)價(jià)單

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• Santis 300 工業(yè)晶圓級定量陰極發(fā)光CL-SEM檢測系統(tǒng) 中文樣本

  Santis 300 工業(yè)晶圓級定量陰極發(fā)光CL-SEM檢測系統(tǒng)產(chǎn)品簡介、技術(shù)參數(shù)、應(yīng)用領(lǐng)域[詳細(xì)]

  2023-03-13 14:43

  產(chǎn)品樣冊

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• [CN中文]美國Instec溫控晶圓夾盤TC102S TC104S

  [CN中文]美國Instec溫控晶圓夾盤TC102S TC104S[詳細(xì)]

  2015-08-28 00:00

  操作手冊

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• [CN中文]美國Instec方形夾盤 高低溫晶圓夾盤系列

  [CN中文]美國Instec方形夾盤 高低溫晶圓夾盤系列[詳細(xì)]

  2015-08-28 00:00

  其它

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• [應(yīng)用速遞]Newport Sol-UV 日光模擬器用于鈣鈦礦太陽能電池

  [應(yīng)用速遞]Newport Sol-UV 日光模擬器用于鈣鈦礦太陽能電池[詳細(xì)]

  2024-09-27 23:54

  應(yīng)用文章

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• 電子鼻檢測改性聚砜膜用于啤酒澄清處理的研究

  電子鼻檢測改性聚砜膜用于啤酒澄清處理的研究[詳細(xì)]

  2024-09-29 14:41

  產(chǎn)品樣冊

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