CVD1200C 900D60IIIR 3ZLV 是集三溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐、三路質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng)及低真空機(jī)組而成一種動(dòng)態(tài)狀態(tài)下的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。

該設(shè)備爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。

LVU-10是一套低真空系統(tǒng)，其極限真空度為10-1Pa， 內(nèi)部安裝有雙級(jí)旋片機(jī)械泵BSV-10配套使用，其接口為KF25，并配有真空連接管路一套，電阻真空計(jì)ZDR-I和連接管道接頭等。

環(huán)境溫度：5~32℃ 空氣相對(duì)濕度：≤85% 工作電壓：AC220V±10% 50/60HZ 系統(tǒng)整體極限真空度：5.0×10-5Pa

MFC-5Z是一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜ZD可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

MFC-5Z是一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜ZD可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

MFC-4Z是一款4路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜ZD可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

LFM1200C-1微型箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。

LFM140C-48高溫箱式爐是以硅碳棒為加熱元件、采用S型熱電偶和30段可編程溫度控制器。

LFM140C-128高溫箱式爐是以硅碳棒為加熱元件、采用S型熱電偶和30段可編程溫度控制器。

LFM1200C 7.2L箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，ZG溫度能達(dá)到1200℃ 。

LFT系列迷你管式爐是用于各種材料熱處理的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。主要行業(yè)有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)...

高溫高壓管式爐如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。

LFT1700C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

高溫區(qū)域熔融升華爐如圖所示，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。

該設(shè)備為雙溫區(qū)管式爐，加熱部分于電控部分相分離，有效延長電子元器件使用壽命，該設(shè)備為開啟式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，石英管橫穿于整個(gè)爐膛，環(huán)型加熱，確保溫場均勻可靠。