LFT-1200C 400D60II 雙溫區開啟式真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

該設備爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備

1200℃開啟式迷你真空管式爐爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。

CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。

CVD1200C-II-SL 200D50-5Z(含預熱器) 雙溫區滑軌式CVD系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。

1200℃開啟式迷你真空管式爐爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。

主要研究內容：基于微波等離子體CVD工藝石墨烯規模化制造裝備及工藝

標準化定制石英管和石英柱保證其余特殊設計的管接頭配合，提升石英管封裝的密封性，實現更高標準的真空封管。

本公司LSQ-01真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成

采用雙層殼體結構，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝。

該系列鐘罩式電阻爐專門設計用于先進陶瓷的預燒、燒結和陶瓷金屬化工藝，如氧化鋯陶瓷插芯（SC/LC）工藝燒結、緊密陶瓷注射成型（CIM）胚體燒結工藝等。